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采用新型CMOS的光散射法颗粒测量研究

第一章 绪论第1-17页
 1.1 前言第12-13页
 1.2 测量方法简介第13-16页
 1.3 论文目的第16页
 1.4 本章小结第16-17页
第二章 光散射法测量颗粒粒度与形状原理第17-32页
 2.1 前言第17页
 2.2 散射光强的振幅函数和强度函数第17-19页
 2.3 光的散射与吸收第19-20页
 2.4 Lambert-beer定律第20-21页
 2.5 单散射与复散射第21页
 2.6 颗粒光散射理论第21-25页
  2.6.1 米氏散射理论(Mie Scattering)第23页
  2.6.2 瑞利散射理论(Ray leigh scattering)第23-24页
  2.6.3 夫朗和费衍射理论(Fraunhofer Diffraction)第24-25页
 2.7 光散射粒度测量典型装置第25-27页
  2.7.1 透镜前傅里叶变换型第25-26页
  2.7.2 透镜后傅里叶变换型第26页
  2.7.3 前、后向散射光同时接收型第26-27页
 2.8 光检测环尺寸参数设计第27-28页
 2.9 颗粒形状测量第28-31页
  2.9.1 形状的表征方法第29-30页
   2.9.1.1 定性描述第29页
   2.9.1.2 定量描述第29-30页
  2.9.2 形状测量方法第30-31页
   2.9.2.1 图象法第30页
   2.9.2.2 衍射谱法第30-31页
 2.10 本章小结第31-32页
第三章 模拟方案与试验设计第32-47页
 3.1 光散射谱的离散方法第32-38页
  3.1.1 基于夫朗和费衍射的数学模型第33-35页
  3.1.2 基于米氏散射数学模型第35-38页
   3.1.2.1 π~n,τ~n的计算第36-37页
   3.1.2.2 α~n,β~n的计算第37-38页
 3.2 求解方案第38-44页
  3.2.1 反问题的求解第39-41页
  3.2.2 hirleman的正则化方法第41-42页
  3.2.3 本文使用的算法第42-44页
   3.2.3.1 PT算法第42-43页
   3.2.3.2 Chahine迭代算法第43-44页
 3.3 模拟工具第44页
 3.4 粒度测量模拟方案设计第44-45页
 3.5 形状测量模拟方案第45-46页
 3.6 试验方案设计第46页
 3.7 本章小结第46-47页
第四章 模拟试验及其结果分析第47-63页
 4.1 反演算法筛选第47-50页
  4.1.1 单峰分布第48-49页
  4.1.2 双峰分布第49-50页
 4.2 散射光谱(光电检测器分环)的截断误差分析第50-55页
  4.2.1 截断误差分布第51-53页
  4.2.2 截断误差即分环数的影响第53页
  4.2.3 随机误差第53-55页
 4.3 误差容限模拟分析第55-56页
 4.4 基于Mie理论的正则化反演模拟第56-58页
 4.5 测量粒度限度的模拟研究第58-62页
 4.6 本章小结第62-63页
第五章 超大颗粒分辨率的提高第63-71页
 5.1 前言第63-64页
 5.2 颗粒粒度随机发生器第64-66页
 5.3 随机发生器结合Hirleman理论模拟第66页
 5.4 分辨率的提高第66-67页
 5.5 影响反演结果的几个因素第67-69页
 5.6 模拟中的翘尾第69-70页
 5.7 本章小结第70-71页
第六章 实测试验第71-90页
 6.1 试验装置第71-76页
  6.1.1 样品槽第72页
  6.1.2 光电接收器第72-75页
   6.1.2.1 CCD第72-73页
   6.1.2.2 CMOS第73-75页
  6.1.3 数据采集卡第75-76页
 6.2 软件第76-78页
 6.3 光强标定第78-80页
 6.4 光学系统校准第80-81页
 6.5 信号处理第81-82页
 6.6 光学系统的稳定性第82-83页
 6.7 粒度测量试验第83-85页
  6.7.1 标准粒子板第83-84页
  6.7.2 重复性试验第84页
  6.7.3 与其它光粒度仪的比较第84-85页
  6.7.4 分辨率第85页
 6.8 形状测量试验第85-89页
  6.8.1 测试装置及模型建立第85-87页
  6.8.2 楔形探测单元上光强相关系数的数值模拟第87-88页
  6.8.3 标准粒子板试验第88-89页
 6.9 本章小结第89-90页
第七章 结论与展望第90-92页
 7.1 结论第90-91页
 7.2 展望第91-92页
参考文献第92-97页
致谢第97页

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