| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-13页 |
| 第一章 绪论 | 第13-55页 |
| ·概述 | 第13-17页 |
| ·锰氧化物的基本性质 | 第17-33页 |
| ·晶体结构 | 第17-21页 |
| ·晶场效应与Jahn-Teller 畸变 | 第21-23页 |
| ·锰氧化物的电子结构 | 第23-25页 |
| ·锰氧化物的磁结构 | 第25-26页 |
| ·锰氧化物的电子相图 | 第26-30页 |
| ·宽带宽锰氧化物La_(1-x)Sr_xMn0_3 的相图 | 第26-27页 |
| ·中带宽锰氧化物La_(1-x)Ca_xMn0_3 的相图 | 第27-28页 |
| ·窄带宽锰氧化物Pr_(1-x)Ca_xMn0_3 的相图 | 第28-30页 |
| ·锰氧化物中的相分离和渗流输运 | 第30-33页 |
| ·相分离 | 第30-32页 |
| ·渗流输运 | 第32-33页 |
| ·锰氧化物外延膜的相关性质 | 第33-45页 |
| ·应变对薄膜结构和性质的影响 | 第34-38页 |
| ·应变对薄膜结构的影响 | 第35-36页 |
| ·应变对薄膜性质的影响 | 第36-38页 |
| ·厚度对薄膜的影响 | 第38-40页 |
| ·氧含量对薄膜的影响 | 第40-42页 |
| ·薄膜锰氧化物主要理论模型 | 第42-45页 |
| ·本论文选题设想 | 第45页 |
| ·本章小结 | 第45-46页 |
| 参考文献 | 第46-55页 |
| 第二章 LBMO 薄膜的制备、表征和应变效应 | 第55-82页 |
| ·薄膜的制备和表征方法简介 | 第55-63页 |
| ·薄膜的制备方法简介 | 第55-57页 |
| ·薄膜表征方法简介和电磁性能的测量 | 第57-63页 |
| ·X 射线衍射(XRD) | 第57-60页 |
| ·原子力显微镜(AFM) | 第60页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM) | 第60-61页 |
| ·磁、输运性质的测量 | 第61-63页 |
| ·LBMO 薄膜的制备过程 | 第63-65页 |
| ·靶材的制备 | 第63-64页 |
| ·磁控溅射制备LBMO 薄膜 | 第64-65页 |
| ·LBMO 薄膜的表征 | 第65-71页 |
| ·薄膜的外延性和双轴应变 | 第65-67页 |
| ·衬底温度对外延的影响 | 第67-68页 |
| ·薄膜厚度的估测 | 第68-69页 |
| ·表面形貌 | 第69-71页 |
| ·LBMO 薄膜的厚度依赖和应变效应 | 第71-79页 |
| ·本章小结 | 第79-81页 |
| 参考文献 | 第81-82页 |
| 第三章 退火对LBMO 薄膜的作用机制以及相分离 | 第82-101页 |
| ·退火对LBMO 薄膜的作用机制 | 第82-90页 |
| ·LBMO 薄膜中氧分布在退火下的进展 | 第90-94页 |
| ·中等退火LBMO 薄膜中的相分离趋势 | 第94-97页 |
| ·本章小结 | 第97-99页 |
| 参考文献 | 第99-101页 |
| 第四章 LBMO 薄膜的磁阻和输运机制 | 第101-117页 |
| ·LBMO 薄膜的磁阻效应 | 第101-105页 |
| ·高温退火样品的磁阻效应 | 第101-104页 |
| ·中等退火样品的磁阻效应 | 第104-105页 |
| ·LBMO 薄膜的输运机制 | 第105-114页 |
| ·高温退火样品的输运机制 | 第105-112页 |
| ·低温输运机制 | 第105-109页 |
| ·高温输运机制 | 第109-112页 |
| ·中等退火样品的输运机制 | 第112-114页 |
| ·本章小结 | 第114-115页 |
| 参考文献 | 第115-117页 |
| 第五章 LBMO 薄膜的尺寸限制效应 | 第117-126页 |
| ·薄膜微加工技术简介 | 第117-119页 |
| ·LBMO 薄膜的尺寸限制效应初探 | 第119-124页 |
| ·本章小结 | 第124-125页 |
| 参考文献 | 第125-126页 |
| 致谢 | 第126-128页 |
| 硕博连读期间发表的论文 | 第128-129页 |
