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GaAs基近红外半导体激光器的设计、生长和制备研究

摘要第1-7页
Abstract第7-9页
目录第9-11页
第一章 绪论第11-25页
   ·课题研究背景及意义第11-12页
   ·半导体激光器简介第12-13页
   ·相关领域的研究现状第13-23页
   ·GaAs 基近红外半导体激光器的研究挑战第23-24页
   ·论文内容和结构第24-25页
第二章 半导体激光器结构外延层设计第25-71页
   ·边发射半导体激光器设计第25-52页
   ·垂直腔表面发射激光器的设计第52-69页
   ·本章小结第69-71页
第三章 半导体激光器外延生长技术第71-87页
   ·金属有机化合物气相外延和分子束外延第72-75页
   ·研究型 MOVPE(Aixtron200/4)系统介绍第75-77页
   ·外延片表征技术第77-80页
   ·基本结构的外延层分析第80-86页
   ·本章小结第86-87页
第四章 半导体激光器制备工艺第87-101页
   ·外延片清洗第87-89页
   ·光刻技术第89-91页
   ·刻蚀工艺第91-94页
   ·湿法选择氧化技术第94-97页
   ·欧姆接触第97-98页
   ·半导体激光器制备工艺流程第98-99页
   ·本章小结第99-101页
第五章 器件测试与分析第101-121页
   ·边发射半导体激光器的变腔长测试第101-103页
   ·GaAs/AlGaAs 量子阱边发射激光器第103-107页
   ·GaAsP 量子阱宽波导半导体激光器第107-109页
   ·InAlGaAs 量子阱非对称波导激光器第109-114页
   ·高温工作 795nm VCSEL第114-119页
   ·本章小结第119-121页
第六章 总结与展望第121-125页
   ·全文总结第121-122页
   ·展望第122-125页
参考文献第125-129页
在学期间学术成果情况第129-131页
指导教师及作者简介第131-133页
致谢第133页

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