| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 1 绪论 | 第9-24页 |
| ·强磁场的产生及发展 | 第9页 |
| ·强磁场技术研究进展 | 第9-16页 |
| ·强磁场对取向的影响 | 第10-12页 |
| ·强磁场取向作用的应用 | 第12-15页 |
| ·强磁场热处理 | 第15-16页 |
| ·Mg-Ti基储氢材料 | 第16-23页 |
| ·储氢材料的开发及分类 | 第16-18页 |
| ·Mg-Ti基储氢材料的研究进展 | 第18-20页 |
| ·机械合金化法制备Mg-Ti储氢材料 | 第20页 |
| ·Mg-Ti薄膜储氢材料 | 第20-22页 |
| ·强磁场在薄膜制备过程中的应用 | 第22-23页 |
| ·论文的研究目的及内容 | 第23-24页 |
| 2 强磁场热处理对Mg-Gd-Zn-Y-Zr合金的影响 | 第24-40页 |
| ·实验方法及设备 | 第24-27页 |
| ·合金熔炼与制备 | 第24-25页 |
| ·强磁场实验装置 | 第25-26页 |
| ·热处理制度 | 第26页 |
| ·显微组织分析 | 第26-27页 |
| ·GWZ852合金铸态及普通热处理组织显微分析 | 第27-31页 |
| ·铸态显微组织分析 | 第27-29页 |
| ·普通热处理组织显微分析 | 第29-31页 |
| ·GWZ930合金铸态及普通热处理组织显微分析 | 第31-32页 |
| ·强磁场热处理组织显微分析 | 第32-35页 |
| ·强磁场热处理后合金组织的取向分析 | 第35-38页 |
| ·本章小结 | 第38-40页 |
| 3 Mg-Ti膜和多层膜的制备及形貌表征 | 第40-53页 |
| ·Mg-Ti薄膜制备方法 | 第40-44页 |
| ·磁控溅射原理 | 第40-41页 |
| ·磁控溅射设备 | 第41-43页 |
| ·靶材及基片的选择及预处理 | 第43页 |
| ·薄膜制备流程 | 第43-44页 |
| ·Mg_(80)Ti_(20)薄膜 | 第44-49页 |
| ·Mg_(80)Ti_(20)薄膜的制备 | 第44-45页 |
| ·Mg_xTi_(1-x)薄膜的显微组织分析 | 第45-49页 |
| ·Mg-Ti多层膜 | 第49-51页 |
| ·Mg_(80)Ti_(20)/Mg多层膜的制备 | 第49-50页 |
| ·Mg_(80)Ti_(20)/Mg多层膜的显微组织分析 | 第50-51页 |
| ·Mg/Ni/Mg/Ni多层膜 | 第51-52页 |
| ·本章小结 | 第52-53页 |
| 4 研究展望 | 第53-54页 |
| 结论 | 第54-55页 |
| 参考文献 | 第55-59页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第59-60页 |
| 致谢 | 第60-61页 |