激光工艺对晶体硅太阳电池光电性能影响的研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-21页 |
| ·研究背景 | 第10-12页 |
| ·国内外发展趋势 | 第12-15页 |
| ·光伏市场发展 | 第12-13页 |
| ·晶体硅片技术进展 | 第13-14页 |
| ·准单晶铸造法 | 第14-15页 |
| ·电池技术进展 | 第15-20页 |
| ·全背接触电池 | 第15-17页 |
| ·HIT电池 | 第17-18页 |
| ·Pluto电池 | 第18-19页 |
| ·Cougar电池 | 第19-20页 |
| ·研究内容 | 第20-21页 |
| 第2章 晶体硅太阳电池及激光工艺简介 | 第21-32页 |
| ·晶体硅太阳电池原理 | 第21页 |
| ·晶体硅太阳电池制造流程 | 第21-27页 |
| ·硅片检测 | 第22页 |
| ·表面制绒 | 第22-24页 |
| ·扩散制结 | 第24-25页 |
| ·刻边 | 第25页 |
| ·去PSG | 第25-26页 |
| ·SiNx沉积 | 第26页 |
| ·电极制备 | 第26-27页 |
| ·电极烧结 | 第27页 |
| ·测试分选 | 第27页 |
| ·激光技术在晶体硅太阳电池中的应用 | 第27-32页 |
| ·激光刻槽 | 第27-29页 |
| ·激光表面织构 | 第29页 |
| ·激光选择性发射极电池 | 第29-30页 |
| ·激光背面点接触 | 第30-32页 |
| 第3章 多晶硅表面激光织构研究 | 第32-42页 |
| ·引言 | 第32-33页 |
| ·实验 | 第33-35页 |
| ·原理及步骤 | 第33-34页 |
| ·测试设备 | 第34-35页 |
| ·结果与讨论 | 第35-41页 |
| ·激光织构工艺优化 | 第35-39页 |
| ·激光织构工艺与产业化工艺比较 | 第39-41页 |
| ·本章小结 | 第41-42页 |
| 第4章 激光自对准选择性发射极电池制作研究 | 第42-53页 |
| ·引言 | 第42-43页 |
| ·激光自对准SE电池制作 | 第43-46页 |
| ·实验结果与表征 | 第46-52页 |
| ·方块电阻 | 第46-48页 |
| ·掺杂浓度及掺杂深度 | 第48-49页 |
| ·I-V测试及J-V曲线 | 第49-52页 |
| ·本章小结 | 第52-53页 |
| 结论 | 第53-55页 |
| 参考文献 | 第55-60页 |
| 附录A 攻读学位期间所发表的学术论文目录 | 第60-61页 |
| 附录B 攻读学位期间所发表的专利目录 | 第61-62页 |
| 致谢 | 第62页 |
