中文摘要 | 第1-5页 |
Abstract | 第5-7页 |
目录 | 第7-10页 |
第一章 绪论 | 第10-23页 |
1-1 无机非金属材料 | 第10页 |
1-2 搪瓷简介 | 第10-12页 |
1-3 搪瓷及其技术的发展状况 | 第12-13页 |
1-4 静电喷涂工艺基本原理及搪瓷静电喷涂工艺的优点 | 第13-18页 |
·静电粉末喷涂法的基本原理 | 第13-15页 |
·静电干粉搪瓷的优点及其要求 | 第15-17页 |
·低温搪瓷干粉开发研制的意义 | 第17-18页 |
1-5 低温静电干粉搪瓷的化学组成 | 第18-19页 |
1-6 本论文的研究内容、设计思路及技术路线 | 第19-20页 |
·本论文所要研究的内容 | 第19页 |
·本论文的设计思路 | 第19-20页 |
·本论文的技术路线 | 第20页 |
参考文献 | 第20-23页 |
第二章 钢板低温静电搪瓷粉末的研制 | 第23-39页 |
2-1 引言 | 第23页 |
2-2 搪瓷釉料的化学组成及配方设计 | 第23-24页 |
·釉料配方的制定方法及原则 | 第23-24页 |
·钢板搪瓷瓷釉的基本要求 | 第24页 |
·瓷釉的分类 | 第24页 |
2-3 实验部分 | 第24-36页 |
·实验仪器及其型号 | 第25页 |
·瓷釉中氧化物的作用 | 第25-26页 |
·本研究中钢板搪瓷瓷釉的原料组成 | 第26-27页 |
·本实验中瓷釉的组成配方 | 第27-29页 |
·搪瓷色素的研制 | 第29-32页 |
·搪瓷瓷釉的研制 | 第32页 |
·瓷釉的热膨胀系数及表面张力 | 第32-33页 |
·低温静电搪瓷干粉的研制 | 第33-35页 |
·搪瓷研制的主要工艺参数 | 第35-36页 |
2-4 结果与讨论 | 第36页 |
2-5 结论 | 第36页 |
2-6 本章小结 | 第36-37页 |
参考文献 | 第37-39页 |
第三章 钢板搪瓷静电喷涂、低温烧成工艺及搪瓷表面缺陷分析 | 第39-56页 |
3-1 引言 | 第39页 |
3-2 钢板涂搪工艺的发展 | 第39-42页 |
·传统的搪瓷涂搪工艺发展状况 | 第39-42页 |
·静电喷涂工艺 | 第42页 |
3-3 实验部分 | 第42-53页 |
·搪瓷钢板的技术要求 | 第42-43页 |
·钢板表面预处理 | 第43-46页 |
·一搪一烧静电喷涂工艺 | 第46-47页 |
·影响静电喷涂上粉率的诸因素 | 第47-49页 |
·烧成工艺 | 第49-51页 |
·钢板搪瓷的表面缺陷分析 | 第51-53页 |
3-4 本章小结 | 第53-54页 |
参考文献 | 第54-56页 |
第四章 钢板静电搪瓷的性能研究 | 第56-71页 |
4-1 搪瓷瓷层外观质量测试 | 第56页 |
4-2 搪瓷瓷层的物理性能及其测试方法 | 第56-64页 |
·搪瓷瓷层厚度的测试 | 第57页 |
·搪瓷密着性能测试及其密着机理 | 第57-64页 |
·搪瓷耐温急变性能测试 | 第64页 |
4-3 搪瓷瓷层化学性能及测试方法 | 第64-67页 |
·搪瓷的耐酸性能测试 | 第65-66页 |
·搪瓷的耐碱性能测试 | 第66-67页 |
4-4 本章小结 | 第67页 |
参考文献 | 第67-71页 |
第五章 人工合成高聚物聚乙二醇对碳酸钙晶体生长的调控 | 第71-82页 |
5-1 引言 | 第71-72页 |
5-2 实验部分 | 第72-73页 |
·试剂与仪器 | 第72页 |
·碳酸钙的结晶化过程 | 第72-73页 |
5-3 结果与分析 | 第73-79页 |
·不同浓度的PEG6000体系中得到的碳酸钙晶体的表征 | 第73-76页 |
·不同分子量的PEG体系中得到的碳酸钙晶体的表征 | 第76-78页 |
·结果与讨论 | 第78-79页 |
5-4 本章小结 | 第79页 |
参考文献 | 第79-82页 |
硕士期间发表的论文 | 第82-83页 |
致谢 | 第83页 |