| 中文摘要 | 第1-4页 |
| 英文摘要 | 第4-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-26页 |
| ·引言 | 第9页 |
| ·纳米材料 | 第9-16页 |
| ·基本概念 | 第9-10页 |
| ·纳米材料的发展及前景 | 第10-11页 |
| ·纳米材料的性质 | 第11-13页 |
| ·纳米材料的应用 | 第13-16页 |
| ·纳米材料的制备方法 | 第16-21页 |
| ·固相法 | 第17页 |
| ·气相法 | 第17-19页 |
| ·液相法 | 第19-20页 |
| ·模板合成法 | 第20页 |
| ·微波合成法 | 第20-21页 |
| ·纳米孔阵列 AAM | 第21-24页 |
| ·纳米孔阵列 AAM 的特点 | 第21-22页 |
| ·纳米孔 AAM 的应用 | 第22-24页 |
| ·本文的选题背景及研究目的 | 第24-26页 |
| ·本文的选题背景 | 第24页 |
| ·本文的研究内容及意义 | 第24-26页 |
| 第二章 纳米孔阵列 AAM 的制备和表征 | 第26-39页 |
| ·引言 | 第26-27页 |
| ·纳米孔阵列 AAM 结构图和形成机理 | 第27-29页 |
| ·纳米孔阵列 AAM 的结构 | 第27页 |
| ·纳米孔阵列 AAM 形成机理的探索 | 第27-29页 |
| ·纳米空阵列阳极氧化铝模板的制备实验 | 第29-32页 |
| ·实验材料 | 第29页 |
| ·化学药品 | 第29-30页 |
| ·实验仪器及设备 | 第30页 |
| ·制备方法 | 第30-32页 |
| ·纳米孔阵列 AAM 的表征 | 第32-37页 |
| ·纳米孔阵列 AAM 的形貌表征 | 第32-35页 |
| ·纳米孔阵列 AAM 的结构表征 | 第35-36页 |
| ·纳米孔阵列 AAM 的光致发光特性 | 第36-37页 |
| ·本章小结 | 第37-39页 |
| 第三章 纳米孔阵列 AAM 形貌的影响因素及退火处理 | 第39-50页 |
| ·引言 | 第39页 |
| ·纳米孔阵列 AAM 形貌的影响因素 | 第39-45页 |
| ·铝片退火的影响 | 第39-40页 |
| ·铝片淬火的影响 | 第40-41页 |
| ·阳极氧化电压对纳米孔阵列 AAM 的影响 | 第41-42页 |
| ·电解液对纳米孔阵列 AAM 的影响 | 第42-44页 |
| ·电解液浓度对于纳米孔阵列 AAM 的影响 | 第44页 |
| ·阳极氧化温度对纳米孔阵列 AAM 的影响 | 第44页 |
| ·阳极氧化时间对纳米孔阵列 AAM 的影响 | 第44-45页 |
| ·扩孔时间对纳米孔阵列 AAM 的影响 | 第45页 |
| ·纳米孔阵列AAM的退火处理 | 第45-49页 |
| ·退火后AAM的SEM形貌测试 | 第45-46页 |
| ·退火后 AAM 的 XRD 图谱 | 第46-47页 |
| ·退火后AAM 的光致发光（PL）测试 | 第47-49页 |
| ·本章小结 | 第49-50页 |
| 第四章 AAM-SnO_2复合膜的制备及其性能的研究 | 第50-62页 |
| ·引言 | 第50页 |
| ·薄膜材料的制备方法 | 第50-52页 |
| ·真空蒸发镀膜法 | 第50-51页 |
| ·溅射镀膜 | 第51页 |
| ·离子镀膜 | 第51页 |
| ·化学气相沉积 | 第51-52页 |
| ·超声喷雾热分解 | 第52页 |
| ·SnO_2薄膜的制备 | 第52-54页 |
| ·实验装置 | 第52-53页 |
| ·实验流程 | 第53-54页 |
| ·沉积在不同衬底上SnO_2薄膜性质的研究 | 第54-60页 |
| ·XRD 测试分析 | 第54-55页 |
| ·SEM 测试分析 | 第55-57页 |
| ·紫外可见光的透过率和吸收率测试 | 第57-59页 |
| ·红外透过率测试 | 第59-60页 |
| ·本章小结 | 第60-62页 |
| 第五章 总结 | 第62-64页 |
| 参考文献 | 第64-68页 |
| 研究生在读期间发表的论文 | 第68-69页 |
| 致谢 | 第69-70页 |