微颗粒表面磁控溅射镀膜研究

摘要	第1-7页
Abstract	第7-18页
第一章 引言	第18-39页
·微颗粒表面镀膜的目的和意义	第18-20页
·国内外关于微颗粒表面镀膜的研究现状	第20-38页
·化学气相沉积方法	第21-24页
·液相沉积	第24页
·气相还原法	第24页
·化学镀方法	第24-28页
·溶胶-凝胶法	第28-29页
·物理气相沉积	第29-38页
·本论文的研究内容	第38-39页
第二章 微颗粒磁控溅射镀膜实验设备的研制	第39-45页
·微颗粒磁控溅射镀膜设备的设计	第39-43页
·设备运行结果	第43页
·本章小结	第43-45页
第三章 空心微珠表面磁控溅射镀金属膜研究	第45-93页
·空心微珠的预处理及理化特性分析	第46-55页
·空心微珠的预处理	第46-51页
·空心微珠的理化特性分析	第51-55页
·磁控溅射镀镍膜、铜膜及银膜实验与结果	第55-75页
·实验过程	第55-56页
·空心微珠表面镀镍膜实验	第56-65页
·空心微珠表面镀铜膜实验	第65-70页
·空心微珠表面镀银膜实验	第70-75页
·不同金属膜的表面形貌比较	第75-78页
·空心微珠表面镀多层金属膜的实验研究	第78-81页
·多层金属膜的形貌比较	第78-80页
·多层金属膜的XRD 比较	第80-81页
·超声波振动和样品架的摆动对金属膜性能的影响	第81-84页
·磁控溅射与化学镀方法比较	第84-91页
·化学镀的原理	第84-85页
·化学镀方法镀膜的过程	第85-86页
·光学显微镜下的比较	第86-87页
·SEM 下的薄膜形貌比较	第87-88页
·薄膜断面的比较	第88-89页
·原子力显微镜下的表面粗糙度比较	第89-90页
·讨论	第90-91页
·小结	第91-93页
第四章 碳化硅颗粒表面磁控溅射镀金属膜研究	第93-100页
·SiC 颗粒表面磁控溅射镀金属铜膜实验	第93-94页
·实验结果与讨论	第94-99页
·表面形貌分析	第94-95页
·表面成份分析	第95-96页
·结构分析	第96-99页
·小结	第99-100页
第五章 磁控溅射在微颗粒表面镀金属膜的机理研究	第100-113页
·磁控溅射沉积技术的特点	第100-103页
·溅射机理	第100页
·溅射镀膜的特点	第100-101页
·磁控溅射的工作原理	第101-103页
·薄膜生长过程及生长机理	第103-105页
·各种因素对薄膜最终结构的影响	第105页
·微颗粒表面磁控溅射金属膜的生长机理研究	第105-112页
·小结	第112-113页
第六章 空心微珠表面磁控溅射镀二氧化钛膜的研究	第113-123页
·实验过程	第115-116页
·空心微珠的表面预处理	第115页
·磁控溅射镀膜过程	第115-116页
·分析仪器	第116页
·实验结果	第116-121页
·表面形貌分析	第116-117页
·薄膜的厚度测量	第117-118页
·薄膜成份的分析	第118-121页
·薄膜的结构分析	第121页
·讨论	第121页
·小结	第121-123页
第七章 微颗粒表面镀金属薄膜的应用	第123-144页
·屏蔽和干扰毫米电磁波的特种颗粒的制备	第124-132页
·材料和颗粒尺寸形状的选择	第124-125页
·颗粒表面镀金属薄膜	第125-132页
·毫米电磁波衰减性能试验	第132-142页
·毫米波测试仪器、原理和方法	第132-133页
·毫米波静态衰减测试	第133-138页
·毫米波动态衰减测试	第138-142页
·讨论	第142页
·小结	第142-144页
结论	第144-147页
参考文献	第147-159页
攻读博士学位期间取得的研究成果	第159-161页
致谢	第161-162页
作者简介	第162页