| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-19页 |
| 第一章 绪论 | 第19-45页 |
| ·引言 | 第19-22页 |
| ·ZnO研究背景 | 第19-21页 |
| ·ZnO基紫外探测器的研究现状 | 第21-22页 |
| ·ZnO的结构与性质 | 第22-25页 |
| ·ZnO的晶体结构 | 第22-23页 |
| ·ZnO的能带结构 | 第23-24页 |
| ·ZnO的发光特性 | 第24-25页 |
| ·ZnO的本征缺陷与掺杂 | 第25-27页 |
| ·ZnO的本征缺陷 | 第25-26页 |
| ·ZnO的n型掺杂 | 第26页 |
| ·ZnO的p型掺杂 | 第26-27页 |
| ·ZnO的应用 | 第27-29页 |
| ·ZnO在声表面波器件方面的应用 | 第27页 |
| ·ZnO在透明电极方面的应用 | 第27-28页 |
| ·ZnO在气敏传感器方面的应用 | 第28页 |
| ·ZnO在光电器件方面的应用 | 第28页 |
| ·ZnO在其它方面的应用 | 第28-29页 |
| ·ZnO薄膜的制备方法 | 第29-34页 |
| ·磁控溅射 | 第29-30页 |
| ·脉冲激光沉积 | 第30-31页 |
| ·金属有机物化学气相沉积 | 第31-32页 |
| ·分子束外延 | 第32-33页 |
| ·喷雾热分解 | 第33页 |
| ·溶胶-凝胶 | 第33-34页 |
| ·论文主要研究内容 | 第34-36页 |
| 参考文献 | 第36-45页 |
| 第二章 ZnO薄膜的磁控溅射制备和测试分析方法 | 第45-64页 |
| ·磁控溅射原理 | 第45-47页 |
| ·磁控溅射制备ZnO薄膜的生长模式 | 第47-50页 |
| ·薄膜生长的基本过程 | 第47-48页 |
| ·磁控溅射制备ZnO薄膜的生长模型 | 第48-50页 |
| ·ZnO薄膜样品的制备 | 第50-53页 |
| ·衬底的清洗 | 第50-51页 |
| ·衬底的制备 | 第51页 |
| ·薄膜样品的制备 | 第51-53页 |
| ·ZnO薄膜的测试分析方法 | 第53-60页 |
| ·X射线衍射技术 | 第53-54页 |
| ·原子力显微镜测试 | 第54-55页 |
| ·扫描电子显微镜测试 | 第55-57页 |
| ·透射谱的测量 | 第57页 |
| ·电学特性的测量 | 第57-58页 |
| ·光致发光谱的测量 | 第58-60页 |
| ·本章小结 | 第60-61页 |
| 参考文献 | 第61-64页 |
| 第三章 ZnO及其掺Al薄膜的制备和特性分析 | 第64-117页 |
| ·氩氧比对ZnO薄膜特性的影响 | 第64-75页 |
| ·XRD分析 | 第65-69页 |
| ·SEM与AFM分析 | 第69-72页 |
| ·电学特性分析 | 第72-73页 |
| ·光学特性分析 | 第73-75页 |
| ·溅射气压对ZnO薄膜特性的影响 | 第75-81页 |
| ·XRD分析 | 第76-78页 |
| ·SEM与AFM分析 | 第78-79页 |
| ·光学特性分析 | 第79-81页 |
| ·ZnO掺Al薄膜的研究现状与光电特性 | 第81-85页 |
| ·溅射功率对AZO薄膜特性的影响 | 第85-94页 |
| ·XRD分析 | 第86-89页 |
| ·SEM分析 | 第89-91页 |
| ·电学特性分析 | 第91-93页 |
| ·光学特性分析 | 第93-94页 |
| ·衬底温度对AZO薄膜特性的影响 | 第94-100页 |
| ·XRD分析 | 第94-97页 |
| ·AFM分析 | 第97-98页 |
| ·电学特性分析 | 第98-99页 |
| ·光学特性分析 | 第99-100页 |
| ·退火对ZnO薄膜特性的影响 | 第100-105页 |
| ·XRD分析 | 第101-103页 |
| ·SEM分析 | 第103-105页 |
| ·发光特性分析 | 第105页 |
| ·退火对AZO薄膜特性的影响 | 第105-109页 |
| ·XRD分析 | 第106-107页 |
| ·SEM分析 | 第107-108页 |
| ·电学特性分析 | 第108-109页 |
| ·本章小结 | 第109-110页 |
| 参考文献 | 第110-117页 |
| 第四章 MSM紫外光电探测器的研制 | 第117-149页 |
| ·MSM光电探测器的工作原理 | 第118-124页 |
| ·金属-半导体接触 | 第124-131页 |
| ·欧姆接触 | 第124-125页 |
| ·肖特基接触 | 第125-127页 |
| ·Ag-ZnO-Al和Au-ZnO-Al结构的制作 | 第127-128页 |
| ·Ag-ZnO-Al和Au-ZnO-Al结构的I-V特性 | 第128-131页 |
| ·MSM光电探测器的制作与特性分析 | 第131-144页 |
| ·制作流程与光刻工艺 | 第131-136页 |
| ·MSM光电探测器的I-V、C-V特性 | 第136-139页 |
| ·MSM光电探测器的光谱响应特性 | 第139-144页 |
| ·本章小结 | 第144-146页 |
| 参考文献 | 第146-149页 |
| 第五章 总结和展望 | 第149-152页 |
| ·总结 | 第149-151页 |
| ·展望 | 第151-152页 |
| 附录A 博士期间发表的论文 | 第152-153页 |
| 致谢 | 第153页 |