多晶硅电磁冷坩埚连续熔铸技术
摘要 | 第1-5页 |
Abstract | 第5-9页 |
第1章 绪论 | 第9-26页 |
·课题研究的背景与意义 | 第9-10页 |
·太阳能电池及其材料的发展现状 | 第10-21页 |
·太阳能电池的分类 | 第10-11页 |
·硅太阳能电池的分类 | 第11-13页 |
·多晶硅的提纯制备方法 | 第13-14页 |
·多晶硅的铸造成形技术 | 第14-20页 |
·国内太阳能级硅发展现状 | 第20-21页 |
·电磁冷坩埚技术及其应用 | 第21-25页 |
·电磁冷坩埚技术的原理 | 第22-23页 |
·电磁冷坩埚技术的特点 | 第23页 |
·国内外电磁冷坩埚技术的研究与应用 | 第23-25页 |
·本文主要研究内容 | 第25-26页 |
第2章 实验装置与方法 | 第26-35页 |
·研究方案与技术路线 | 第26页 |
·实验设备 | 第26-28页 |
·加料器的设计加工与优化 | 第28-33页 |
·加料器的加工 | 第28-30页 |
·加料器加料速度的测定 | 第30-31页 |
·加料器的改进 | 第31-33页 |
·实验材料 | 第33-34页 |
·试样分析与测试方法 | 第34-35页 |
第3章 多晶硅电磁冷坩埚连续熔铸工艺研究 | 第35-49页 |
·前言 | 第35页 |
·多晶硅原料的启熔 | 第35-42页 |
·启熔原理与方式 | 第35-36页 |
·启熔影响因素 | 第36-42页 |
·熔池的稳定 | 第42-46页 |
·熔池熄灭分析及控制 | 第42-45页 |
·熔体飞溅分析及控制 | 第45-46页 |
·启熔器拉断分析及改进 | 第46-47页 |
·本章小结 | 第47-49页 |
第4章 多晶硅锭缺陷及组织研究 | 第49-62页 |
·前言 | 第49页 |
·缺陷分析与研究 | 第49-56页 |
·表面缺陷 | 第49-52页 |
·宏观缺陷 | 第52-54页 |
·微观缺陷 | 第54-56页 |
·凝固组织研究 | 第56-60页 |
·宏观组织 | 第56-59页 |
·微观组织 | 第59-60页 |
·本章小结 | 第60-62页 |
结论 | 第62-63页 |
参考文献 | 第63-69页 |
攻读学位期间发表的学术论文 | 第69-71页 |
致谢 | 第71页 |