| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-9页 |
| 第一章 引言 | 第9-30页 |
| ·LBO 晶体表面增透膜研究的背景与意义 | 第9-12页 |
| ·LBO 晶体的基本性质 | 第12-13页 |
| ·LBO 晶体表面镀膜存在的问题和研究现状 | 第13-16页 |
| ·光学薄膜的激光损伤 | 第16-23页 |
| ·激光方面的因素 | 第16-19页 |
| ·薄膜制备工艺对激光损伤的影响 | 第19-22页 |
| ·光学薄膜的激光损伤机理 | 第22-23页 |
| ·本文的研究内容 | 第23-25页 |
| 参考文献 | 第25-30页 |
| 第二章 薄膜的相关测试与制备技术 | 第30-40页 |
| ·X 射线衍射分析技术 | 第30-31页 |
| ·表面形貌观测技术 | 第31页 |
| ·本文所采用的激光损伤阈值测试方式和装置 | 第31-33页 |
| ·薄膜光学性质的测量与计算 | 第33-35页 |
| ·本文中所采用的薄膜制备技术 | 第35-38页 |
| ·本章小结 | 第38-39页 |
| 参考文献 | 第39-40页 |
| 第三章 LBO晶体上倍频增透膜的设计 | 第40-55页 |
| ·矢量法设计倍频增透膜 | 第40-41页 |
| ·二倍频增透膜的设计 | 第41-47页 |
| ·膜系设计 | 第41-43页 |
| ·误差分析 | 第43-47页 |
| ·三倍频增透膜的设计 | 第47-53页 |
| ·膜系设计 | 第47-49页 |
| ·误差分析 | 第49-53页 |
| ·本章小结 | 第53-54页 |
| 参考文献 | 第54-55页 |
| 第四章 单层膜HfO_2制备工艺实验研究 | 第55-68页 |
| ·考夫曼离子源辅助沉积HfO_2 薄膜 | 第55-62页 |
| ·样品制备 | 第55-56页 |
| ·实验结果与讨论 | 第56-62页 |
| ·霍尔源辅助沉积HfO_2 薄膜 | 第62-66页 |
| ·样品制备 | 第62页 |
| ·实验结果与讨论 | 第62-66页 |
| ·本章小结 | 第66-67页 |
| 参考文献 | 第67-68页 |
| 第五章 影响LBO晶体表面倍频增透膜激光损伤阈值的因素分析 | 第68-77页 |
| ·制备技术 | 第68-69页 |
| ·样品制备 | 第68页 |
| ·实验结果与讨论 | 第68-69页 |
| ·基底和膜层表面的缺陷和污染 | 第69-73页 |
| ·样品制备 | 第69-70页 |
| ·实验结果与讨论 | 第70-73页 |
| ·基底的清洗工艺 | 第73-75页 |
| ·样品制备 | 第73页 |
| ·实验结果与讨论 | 第73-75页 |
| ·本章小结 | 第75-76页 |
| 参考文献 | 第76-77页 |
| 第六章 LBO晶体表面高激光损伤阈值增透膜的制备 | 第77-95页 |
| ·高性能946nm，473nm 倍频增透膜的制 | 第77-85页 |
| ·样品制备 | 第77-78页 |
| ·实验结果与讨论 | 第78-85页 |
| ·实际使用情况 | 第85页 |
| ·内保护层对激光损伤阈值的提高 | 第85-92页 |
| ·膜系设计 | 第86页 |
| ·样品制备 | 第86页 |
| ·实验结果与讨论 | 第86-91页 |
| ·实际使用情况 | 第91-92页 |
| ·本章小结 | 第92-93页 |
| 参考文献 | 第93-95页 |
| 第七章 全文总结 | 第95-97页 |
| ·本文的主要研究成果 | 第95-96页 |
| ·本文的创新点 | 第96页 |
| ·展望 | 第96-97页 |
| 博士学位期间发表论文目录 | 第97-98页 |
| 致谢 | 第98页 |