| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-9页 |
| 第一章 文献综述 | 第9-25页 |
| ·金刚石薄膜 | 第9-19页 |
| ·金刚石的结构 | 第9-10页 |
| ·常见的化学气相沉积制备方法 | 第10-12页 |
| ·金刚石性质及应用领域 | 第12-16页 |
| ·化学气相沉积金刚石薄膜的研究进展 | 第16-19页 |
| ·碳氮膜 | 第19-24页 |
| ·碳氮膜优异性能及应用 | 第19页 |
| ·碳氮膜的几种常见化学气相沉积方法 | 第19-21页 |
| ·电子回旋共振、间接微波等离子体-化学气相沉积法 | 第19-20页 |
| ·热丝辅助、直流辉光放电、射频放电等离子体增强-化学气相沉积法 | 第20-21页 |
| ·化学气相沉积法制备碳氮膜的特点 | 第21-22页 |
| ·化学气相沉积碳氮膜的研究进展 | 第22-24页 |
| ·本课题的目的与意义 | 第24-25页 |
| 第二章 热丝化学气相沉积金刚石薄膜的设备及表征手段 | 第25-32页 |
| ·热丝CVD法沉积金刚石薄膜的实验装置及实验用品 | 第25-28页 |
| ·实验装置图 | 第25-26页 |
| ·乙醇进入反应室的实验装置图 | 第26-28页 |
| ·实验仪器与药品 | 第28页 |
| ·实验过程 | 第28-31页 |
| ·灯丝预处理 | 第28-29页 |
| ·基体预处理 | 第29页 |
| ·实验步骤操作 | 第29-31页 |
| ·金刚石薄膜的表征方法 | 第31-32页 |
| ·金相显微镜 | 第31页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM) | 第31页 |
| ·X射线衍射仪(XRD) | 第31-32页 |
| 第三章 CVD金刚石薄膜形核及生长的研究 | 第32-48页 |
| ·乙醇为碳源CVD法制备金刚石薄膜样品的制备 | 第32-33页 |
| ·实验条件 | 第32-33页 |
| ·金刚石薄膜的沉积过程 | 第33页 |
| ·实验结果与讨论 | 第33-47页 |
| ·对金刚石薄膜形核速率的研究 | 第33-36页 |
| ·乙醇用量对金刚石薄膜形核速率的影响 | 第33-35页 |
| ·反应压强对金刚石薄膜形核速率的影响 | 第35-36页 |
| ·对金刚石薄膜沉积生长的研究 | 第36-47页 |
| ·乙醇用量对金刚石薄膜的影响 | 第36-40页 |
| ·乙醇用量对金刚石薄膜沉积速率的影响 | 第36-39页 |
| ·乙醇用量对沉积金刚石薄膜质量的影响 | 第39-40页 |
| ·基体温度对沉积金刚石薄膜的影响 | 第40-42页 |
| ·反应压强对沉积金刚石薄膜的影响 | 第42-45页 |
| ·沉积时间对金刚石薄膜的影响 | 第45-47页 |
| ·小结 | 第47-48页 |
| 第四章 碳源不同对金刚石薄膜制备的影响 | 第48-57页 |
| ·碳源不同对金刚石形核阶段的影响 | 第48-50页 |
| ·碳源不同对金刚石薄膜生长阶段的影响 | 第50-54页 |
| ·碳源不同对金刚石薄膜生长速率的影响 | 第50-53页 |
| ·碳源不同对金刚石薄膜表面质量的影响 | 第53-54页 |
| ·金刚石薄膜的XRD分析 | 第54-56页 |
| ·小结 | 第56-57页 |
| 第五章 化学气相沉积碳氮薄膜的研究 | 第57-64页 |
| ·引言 | 第57页 |
| ·正偏压HFCVD碳氮膜的制备与表征 | 第57-59页 |
| ·实验用品及实验装置 | 第57页 |
| ·实验流程 | 第57-58页 |
| ·测试手段 | 第58页 |
| ·实验结果与讨论 | 第58-59页 |
| ·等离子化学气相沉积法制备碳氮膜与表征 | 第59-63页 |
| ·实验装置 | 第59-60页 |
| ·实验流程 | 第60页 |
| ·测试手段 | 第60页 |
| ·实验结果与讨论 | 第60-63页 |
| ·小结 | 第63-64页 |
| 论文总结 | 第64-66页 |
| 参考文献 | 第66-72页 |
| 致谢 | 第72-73页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文 | 第73-75页 |