Co/Cu多层纳米线的电化学制备和性能研究
中文摘要 | 第1-3页 |
ABSTRACT | 第3-8页 |
第一章 文献综述 | 第8-25页 |
·引言 | 第8-9页 |
·巨磁电阻效应 | 第9-14页 |
·巨磁电阻效应的发现 | 第9页 |
·巨磁电阻效应产生的原理 | 第9-10页 |
·巨磁电阻材料 | 第10-13页 |
·巨磁电阻效应研究现状 | 第13-14页 |
·纳米线的制备 | 第14-15页 |
·分子束外延生长 | 第14-15页 |
·纳米平板印刷技术 | 第15页 |
·模板法 | 第15页 |
·模板法的分类 | 第15-21页 |
·高分子模板 | 第15-16页 |
·金属模板 | 第16页 |
·氧化铝模板 | 第16-21页 |
·模板合成纳米线 | 第21-22页 |
·化学沉积 | 第21-22页 |
·化学聚合 | 第22页 |
·电化学沉积金属纳米线 | 第22页 |
·电沉积制备金属纳米线 | 第22-23页 |
·交流电沉积 | 第22-23页 |
·直流电沉积 | 第23页 |
·直流电沉积制备多层纳米线 | 第23-24页 |
·单槽法 | 第23页 |
·双槽法 | 第23-24页 |
·本论文的主要工作 | 第24-25页 |
·AAO电极的制备 | 第24页 |
·电沉积制备纳米线 | 第24-25页 |
第二章 AAO模板的制备 | 第25-36页 |
·引言 | 第25页 |
·贯通模板的制备流程 | 第25-30页 |
·实验药品 | 第25-26页 |
·仪器 | 第26页 |
·工艺流程 | 第26页 |
·退火 | 第26页 |
·机械抛光 | 第26页 |
·封样 | 第26-27页 |
·有机除油 | 第27页 |
·电解抛光 | 第27页 |
·阳极氧化 | 第27-28页 |
·二次氧化 | 第28页 |
·除阻挡层工艺 | 第28-29页 |
·扩孔 | 第29页 |
·实验装置图 | 第29-30页 |
·制备模板的结果与讨论 | 第30-34页 |
·制备铝阳极氧化膜的各阶段形貌 | 第30-33页 |
·贯通的多孔铝阳极氧化膜的形貌 | 第33-34页 |
·电极的制备 | 第34-35页 |
·结论 | 第35-36页 |
第三章 单金属纳米结构 | 第36-51页 |
·引言 | 第36页 |
·实验方法 | 第36-37页 |
·电极制备 | 第36-37页 |
·纳米材料制备 | 第37页 |
·纳米材料表征 | 第37页 |
·VSM表征 | 第37页 |
·纳米线的制备及表征 | 第37-42页 |
·钴纳米线 | 第42-45页 |
·沉积电位选择 | 第42页 |
·钴纳米线形貌表征 | 第42-43页 |
·钴纳米线结构表征 | 第43-44页 |
·钴纳米线阵列的磁性能 | 第44-45页 |
·小结 | 第45页 |
·钴纳米管 | 第45-48页 |
·引言 | 第45-46页 |
·钴纳米管制备 | 第46页 |
·钴纳米管的表面形貌 | 第46-47页 |
·钴纳米管的磁性能 | 第47页 |
·小结 | 第47-48页 |
·钴纳米颗粒阵列 | 第48-49页 |
·引言 | 第48页 |
·钴纳米颗粒的制备 | 第48页 |
·形貌表征 | 第48-49页 |
·小结 | 第49页 |
·结论 | 第49-51页 |
第四章 CO/CU多层纳米线的制备及性能研究 | 第51-68页 |
·引言 | 第51页 |
·试验方法 | 第51-56页 |
·氧化铝模板的制备 | 第51页 |
·直流电沉积铜钴纳米线 | 第51-52页 |
·形貌表征 | 第52页 |
·结构分析 | 第52-53页 |
·多层纳米线磁性能测试 | 第53页 |
·多层纳米线巨磁电阻性能测试 | 第53-56页 |
·沉积时间—电流曲线 | 第56页 |
·铜钴多层纳米线的形貌表征 | 第56-60页 |
·EDS、XRD分析 | 第60-62页 |
·铜钴多层纳米线的EDS成分分析 | 第60-61页 |
·铜钴多层纳米线的结构分析 | 第61-62页 |
·铜钴多层纳米线的磁性能 | 第62-64页 |
·铜钴多层纳米线的巨磁电阻性能 | 第64-66页 |
·结论 | 第66-68页 |
第五章 结论 | 第68-70页 |
参考文献 | 第70-74页 |
发表论文和参加科研情况说明 | 第74-75页 |
致谢 | 第75页 |