| 第一章 绪论 | 第1-21页 |
| ·磁记录技术的发展及现状 | 第9-11页 |
| ·微磁学的发展及现状 | 第11-13页 |
| ·软磁薄膜磁头简介 | 第13-19页 |
| ·软磁材料概述 | 第13-14页 |
| ·磁头软磁材料 | 第14-19页 |
| ·本论文的研究内容 | 第19-20页 |
| 参考文献 | 第20-21页 |
| 第二章 微磁学模型 | 第21-40页 |
| ·基本的微磁学模型 | 第21-34页 |
| ·基本概念 | 第21-23页 |
| ·能量密度 | 第23-28页 |
| ·有效场 | 第28-30页 |
| ·Undau-Lifshitz-Gilbert方程 | 第30-33页 |
| ·微磁学模拟流程 | 第33-34页 |
| ·随机各向异性模型 | 第34-37页 |
| ·本文主要模拟步骤 | 第37-39页 |
| 参考文献 | 第39-40页 |
| 第三章 宏观磁特性的模拟 | 第40-53页 |
| ·软磁材料的复数磁导率及其频率响应 | 第40-43页 |
| ·研究内容 | 第43-52页 |
| ·静态下 FeCo薄膜和 FeAlN薄膜的磁特性模拟 | 第44-47页 |
| ·宏观高频响应模拟 | 第47-52页 |
| 参考文献 | 第52-53页 |
| 第四章 介观高频响应的模拟 | 第53-69页 |
| ·不同形状对频率曲线的影响 | 第53-56页 |
| ·磁畴结构对频率曲线的影响 | 第56-61页 |
| ·建立模型得到磁畴模式 | 第56-58页 |
| ·“涡漩”和“梯形”磁畴结构的高频响应 | 第58-61页 |
| ·不同材料对频率曲线的影响 | 第61-66页 |
| ·偏置场对频率曲线的影响 | 第66-68页 |
| 参考文献 | 第68-69页 |
| 结论 | 第69-70页 |
| 致谢 | 第70页 |