| 第一章 绪论 | 第1-24页 |
| ·纳米材料及纳米科技 | 第7-10页 |
| ·纳米技术的发展 | 第7页 |
| ·纳米材料的结构和性能 | 第7-8页 |
| ·纳米材料的应用 | 第8-9页 |
| ·预测与展望 | 第9-10页 |
| ·半导体氧化钛的研究现状 | 第10-12页 |
| ·半导体材料及其研究现状 | 第10页 |
| ·纳米半导体的特殊性质 | 第10-11页 |
| ·纳米半导体的应用 | 第11-12页 |
| ·光催化反应原理 | 第12-15页 |
| ·TiO_2 光催化反应原理 | 第12-14页 |
| ·氮掺杂半导体的可见光催化机理 | 第14-15页 |
| ·TiO_2 光催化活性的影响因素 | 第15-19页 |
| ·晶体结构的影响 | 第15-17页 |
| ·晶粒尺寸的影响 | 第17-18页 |
| ·表面活性的影响 | 第18-19页 |
| ·纳米TiO_2 薄膜的主要制备方法 | 第19-23页 |
| ·液相沉积法 | 第20页 |
| ·化学气相沉积法 | 第20页 |
| ·磁控溅射法 | 第20-21页 |
| ·溶胶-凝胶法 | 第21-23页 |
| ·本文研究背景及内容 | 第23-24页 |
| ·选题意义 | 第23页 |
| ·本文研究内容 | 第23-24页 |
| 第二章 实验内容及分析方法 | 第24-29页 |
| ·实验设备 | 第24页 |
| ·样品的制备 | 第24-26页 |
| ·样品的表征方法 | 第26-29页 |
| ·场发射扫描电子显微镜(Field Emission Scanning Electron Microscope,FE-SEM) | 第26页 |
| ·X 射线光电子能谱(X-Ray Photoelectric Spectrum,XPS) | 第26页 |
| ·X 射线衍射(X-ray Diffraction,XRD) | 第26页 |
| ·紫外/可见光谱(UV/Vis Spectrum) | 第26-27页 |
| ·红外光谱分析 | 第27页 |
| ·光催化性能测试 | 第27-29页 |
| 第三章 碳氮掺杂氧化钛薄膜结构和性能研究 | 第29-41页 |
| ·TNC 薄膜形貌结构及性能表征 | 第30-37页 |
| ·TNC 薄膜FE–SEM 表面形貌分析 | 第30-32页 |
| ·TNC 薄膜的XPS 分析 | 第32-33页 |
| ·TNC 薄膜XRD 分析 | 第33-34页 |
| ·TNC 薄膜的UV/Vis 吸光光谱分析 | 第34-36页 |
| ·TNC 薄膜的光催化活性分析 | 第36-37页 |
| ·TNC 薄膜中O 被N、C 取代的过程 | 第37-39页 |
| ·TNC 薄膜的可见光吸收原理 | 第39-40页 |
| ·本章小结 | 第40-41页 |
| 第四章 碳氮掺杂氧化钛薄膜退火后结构和性能的变化研究 | 第41-48页 |
| ·TTNC 薄膜的光催化活性分析 | 第41-42页 |
| ·TTNC 薄膜微观结构 | 第42-47页 |
| ·TTNC 薄膜形貌结构及性能表征 | 第42-43页 |
| ·TTNC 薄膜的UV/Vis 吸光光谱分析 | 第43-44页 |
| ·TTNC 薄膜的XPS 分析 | 第44-47页 |
| ·TTNC 薄膜红外光谱分析 | 第47页 |
| ·本章小结 | 第47-48页 |
| 第五章 结论 | 第48-49页 |
| 参考文献 | 第49-54页 |
| 摘要 | 第54-56页 |
| Abstract | 第56-59页 |
| 致谢 | 第59页 |
