电沉积非晶钴硼合金工艺
| 中文摘要 | 第1-5页 |
| 英文摘要 | 第5-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-19页 |
| ·引言 | 第11-12页 |
| ·非晶态合金 | 第12-17页 |
| ·非晶态的特点 | 第12页 |
| ·非晶态的类型 | 第12页 |
| ·非晶态的制备 | 第12页 |
| ·非晶态的历史 | 第12-14页 |
| ·非晶态的形成 | 第14-16页 |
| ·非晶态的价值 | 第16-17页 |
| ·选题意义和研究目的 | 第17-19页 |
| 第二章 电沉积理论 | 第19-37页 |
| ·电沉积基本原理 | 第19-20页 |
| ·电沉积优点 | 第20页 |
| ·电沉积热力学基础 | 第20-24页 |
| ·电极电位 | 第20-21页 |
| ·金属自水溶液中电沉积的可能性 | 第21-24页 |
| ·电沉积动力学基础 | 第24-29页 |
| ·电沉积反应过程 | 第24-25页 |
| ·电结晶过程动力学 | 第25-29页 |
| ·合金电镀 | 第29-34页 |
| ·合金电镀定义 | 第29-30页 |
| ·合金电镀基本条件 | 第30-31页 |
| ·合金电镀实现途径 | 第31-32页 |
| ·合金电镀类型 | 第32-34页 |
| ·沉积物形态 | 第34-37页 |
| 第三章 实验方法 | 第37-41页 |
| ·实验装置 | 第37-38页 |
| ·基体选择 | 第38页 |
| ·预处理 | 第38-40页 |
| ·打磨 | 第38页 |
| ·有机溶剂除油 | 第38-39页 |
| ·化学除油 | 第39页 |
| ·浸蚀 | 第39页 |
| ·化学抛光 | 第39-40页 |
| ·分析与测试方法 | 第40-41页 |
| ·沉积速率 | 第40页 |
| ·X射线衍射 | 第40页 |
| ·扫描电子显微镜 | 第40页 |
| ·扫描隧道显微镜 | 第40-41页 |
| 第四章 实验设计与方案 | 第41-55页 |
| ·试错法确定镀液组成 | 第42-44页 |
| ·主盐 | 第42页 |
| ·还原剂 | 第42页 |
| ·络合剂 | 第42-43页 |
| ·缓冲剂 | 第43-44页 |
| ·正交法优化基础镀液 | 第44-47页 |
| ·单因素试验优化工艺 | 第47-55页 |
| ·温度对沉积速率的影响 | 第48页 |
| ·电流密度对沉积速率的影响 | 第48-49页 |
| ·硫酸钴对沉积速率的影响 | 第49-50页 |
| ·硼氢化钠对沉积速率的影响 | 第50-51页 |
| ·酒石酸钠对沉积速率的影响 | 第51页 |
| ·pH值对沉积速率的影响 | 第51-52页 |
| ·四硼酸钠对沉积速率的影响 | 第52-55页 |
| 第五章 结构和表面形貌分析 | 第55-69页 |
| ·X射线结构分析 | 第55-60页 |
| ·X射线结构分析基础 | 第55-56页 |
| ·电沉积工艺参数对XRD影响 | 第56-60页 |
| ·表面形貌分析 | 第60-69页 |
| ·表面形貌分析基础 | 第60-61页 |
| ·表面形貌分析 | 第61-69页 |
| 第六章 结论与展望 | 第69-71页 |
| 参考文献 | 第71-77页 |
| 读研期间发表的论文 | 第77-79页 |
| 致谢 | 第79-81页 |
