超音速火焰喷涂层电解抛光研究
| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACTS | 第4-5页 |
| 目录 | 第5-8页 |
| CONTENTS | 第8-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-23页 |
| ·课题研究意义 | 第11-12页 |
| ·国内外研究现状 | 第12-21页 |
| ·切削 | 第13页 |
| ·磨削 | 第13-15页 |
| ·电火花加工 | 第15-16页 |
| ·电解抛光 | 第16-18页 |
| ·电解磨削 | 第18-19页 |
| ·电化学机械抛光 | 第19-21页 |
| ·本课题的来源与主要内容 | 第21-23页 |
| ·课题来源 | 第21页 |
| ·主要研究内容 | 第21页 |
| ·课题研究的主要目标 | 第21-23页 |
| 第二章 电解抛光的设备以及电解液研究 | 第23-41页 |
| ·电解加工的理论基础 | 第23-28页 |
| ·电解加工金属去除机理 | 第23-25页 |
| ·电解加工间隙中的流场特性 | 第25-27页 |
| ·电解加工间隙中的电场特性 | 第27-28页 |
| ·装置设计 | 第28-29页 |
| ·电解抛光工具的运动控制 | 第29-32页 |
| ·步进电机驱动 | 第29-30页 |
| ·AVR单片机技术及编程环境 | 第30页 |
| ·单片机对步进电机的控制 | 第30-31页 |
| ·步进电机的加减速控制 | 第31-32页 |
| ·电解加工电源研究 | 第32-33页 |
| ·电解抛光工具设计 | 第33-35页 |
| ·电解液的选用 | 第35-40页 |
| ·电解液基质的选择 | 第36-37页 |
| ·添加剂的选择 | 第37-39页 |
| ·电解液的浓度与温度对电导率的影响 | 第39-40页 |
| ·本章小结 | 第40-41页 |
| 第三章 碳化钨钴涂层的电解抛光工艺研究 | 第41-55页 |
| ·超音速火焰喷涂层特性 | 第41-42页 |
| ·碳化钨钴涂层的电解抛光 | 第42-44页 |
| ·电解抛光试验方案 | 第42-43页 |
| ·涂层电解抛光特性 | 第43-44页 |
| ·碳化钨钴涂层的机械电解抛光 | 第44-46页 |
| ·涂层机械电解抛光正交实验 | 第46-51页 |
| ·试验数据分析 | 第47-48页 |
| ·单因素实验论证分析 | 第48-51页 |
| ·抛光后的WC／Co涂层分析 | 第51-53页 |
| ·涂层显微形貌观察 | 第51-53页 |
| ·涂层显微硬度分析 | 第53页 |
| ·本章总结 | 第53-55页 |
| 第四章 复杂型面的电抛光研究 | 第55-61页 |
| ·瓦楞辊的抛光 | 第55-56页 |
| ·移动式阴极机械电解抛光整辊涂层 | 第56-59页 |
| ·移动式阴极脉冲机械电解抛光实验 | 第56-58页 |
| ·电火花抛光WC／Co涂层 | 第58-59页 |
| ·两种抛光方式的对比 | 第59页 |
| ·瓦楞轴电抛光工艺可行性分析 | 第59-60页 |
| ·本章小结 | 第60-61页 |
| 结论与展望 | 第61-64页 |
| 一、主要结论 | 第61-62页 |
| 二、展望 | 第62-64页 |
| 参考文献 | 第64-68页 |
| 攻读学位期间发表的论文 | 第68-69页 |
| 独创性声明 | 第69-70页 |
| 致谢 | 第70页 |
