目录 | 第1-4页 |
摘要 | 第4-8页 |
第一章 绪论 | 第8-27页 |
·铁电材料的特性 | 第8-10页 |
·介电材料的压电、热释电和铁电性质 | 第8-9页 |
·铁电材料的电畴和居里温度 | 第9-10页 |
·铁电材料的应用 | 第10-12页 |
·电光效应 | 第10-11页 |
·光折变效应 | 第11-12页 |
·铁电薄膜的发展 | 第12-18页 |
·重要的铁电薄膜材料 | 第13页 |
·铁电薄膜的实用化研究 | 第13-16页 |
·铁电-硅基微集成系统 | 第16-18页 |
·重要的铁电薄膜--铌酸锶钡(SBN) | 第18-22页 |
·铌酸锶钡单晶的介绍 | 第18-20页 |
·铌酸锶钡薄膜的研究现状 | 第20-22页 |
·本文的研究内容和创新点 | 第22-27页 |
第二章 SBN薄膜及其缓冲层的制备 | 第27-36页 |
·SBN薄膜的制备 | 第27-31页 |
·制备方法 | 第27-28页 |
·SBN薄膜的制备流程(Sol-Gel法) | 第28-31页 |
·缓冲层的选择与制备 | 第31-33页 |
·缓冲层的意义 | 第31页 |
·缓冲层的选择 | 第31-32页 |
·缓冲层的制备 | 第32-33页 |
·检测手段 | 第33-36页 |
第三章 SBN薄膜结构性能测试与结果分析 | 第36-66页 |
·SBN薄膜在Si衬底上的生长 | 第36-45页 |
·择优取向的SBN薄膜 | 第36-38页 |
·烧结温度对SBN薄膜结晶的影响 | 第38-40页 |
·溶液组分对结晶的影响 | 第40-41页 |
·薄膜厚度对结晶的影响 | 第41-42页 |
·衬底材料对结晶的影响 | 第42-43页 |
·前驱溶液对结晶的影响 | 第43-45页 |
·K离子与SBN薄膜关系 | 第45-55页 |
·Nb(OC_2H_5)_5与NbCl_5的区别 | 第45-48页 |
·K离子对SBN薄膜的影响 | 第48-55页 |
·MgO薄膜缓冲层与SBN薄膜 | 第55-66页 |
·MgO薄膜的取向性 | 第55-58页 |
·AFM分析 | 第58页 |
·摇摆曲线分析 | 第58-59页 |
·MgO薄膜折射率的测量 | 第59-60页 |
·MgO缓冲层对SBN薄膜的影响 | 第60-63页 |
·SBN薄膜的表面形态 | 第63-66页 |
第四章 SBN薄膜物理性能测试 | 第66-80页 |
·SBN60薄膜电光系数的测量及在M-Z型波导中的应用 | 第66-74页 |
·测试方法的选择--透射法 | 第66-68页 |
·电光系数r_(51)的测试 | 第68-70页 |
·M-Z型波导 | 第70-72页 |
·电光系数r_(33)的测量方法 | 第72-74页 |
·光学特性 | 第74-76页 |
·损耗 | 第76-80页 |
第五章 总结与展望 | 第80-83页 |
·对已完成工作的总结 | 第80-81页 |
·存在的问题与发展方向 | 第81-83页 |
·关于改进溶胶-凝胶工艺的一些建议 | 第81页 |
·物理性能方面的测试 | 第81页 |
·SBN铁电薄膜及其它铁电薄膜的应用前景 | 第81-83页 |
硕士期间完成的论文 | 第83-84页 |
致谢 | 第84页 |