二氧化钛/氧化铝纳米有序阵列功能结构的合成和物性研究
| 第一章 纳米材料与纳米科技 | 第1-21页 |
| §1．1 纳米科技 | 第9-11页 |
| 1．1．1 概论 | 第9页 |
| 1．1．2 纳米科技的定义 | 第9页 |
| 1．1．3 纳米科技概念的提出与发展 | 第9-10页 |
| 1．1．4 纳米科技的意义 | 第10页 |
| 1．1．5 纳米科技的研究领域 | 第10-11页 |
| §1．2 纳米材料 | 第11-16页 |
| 1．2．1 概论 | 第11页 |
| 1．2．2 纳米材料的基本内涵 | 第11-12页 |
| 1．2．3 纳米材料的效应与物理特性 | 第12-13页 |
| 1．2．4 纳米材料的发展趋势与研究热点 | 第13-16页 |
| §1．3 纳米结构材料的模板合成 | 第16-20页 |
| 1．3．1 纳米结构模板 | 第16-18页 |
| 1．3．2 纳米结构的模板组装 | 第18-20页 |
| §1．4 本文研究内容 | 第20-21页 |
| 第二章 氧化铝有序阵列模板制备工艺研究 | 第21-34页 |
| §2．1 引言 | 第21-22页 |
| §2．2 氧化铝有序孔自组织生长机理的探讨 | 第22-25页 |
| §2．3 实验方法 | 第25-28页 |
| 2．3．1 实验原料与仪器 | 第25-26页 |
| 2．3．2 制备过程 | 第26-28页 |
| §2．4 氧化铝模板的结构表征 | 第28-29页 |
| §2．5 阵列模板有序性影响因素的讨论 | 第29-33页 |
| §2．6 本章小结 | 第33-34页 |
| 第三章 电沉积二氧化钛功能膜的研究 | 第34-46页 |
| §3．1 引言 | 第34-36页 |
| §3．2 电沉积功能陶瓷（薄膜）的原理 | 第36-39页 |
| 3．2．1 阴极电沉积 | 第36页 |
| 3．2．2 阳极电沉积 | 第36页 |
| 3．2．3 电泳电沉积 | 第36-37页 |
| 3．2．4 电沉积功能膜的影响因素 | 第37-39页 |
| §3．3 电沉积二氧化钛的工艺研究 | 第39-42页 |
| 3．3．1 实验方法 | 第39-41页 |
| 3．3．2 各因素对电沉积TiO_2工艺的影响 | 第41-42页 |
| §3．4 实验结果与讨论 | 第42-45页 |
| §3．5 本章小结 | 第45-46页 |
| 第四章 二氧化钛有序纳米结构体系 | 第46-54页 |
| §4．1 引言 | 第46-47页 |
| §4．2 样品制备 | 第47-50页 |
| §4．3 结构表征 | 第50-53页 |
| §4．4 本章小结 | 第53-54页 |
| 第五章 有序纳米体系的物性研究 | 第54-59页 |
| §5．1 引言 | 第54页 |
| §5．2 半导体的光吸收 | 第54-57页 |
| 5．2．1 半导体中的主要光吸收过程 | 第55-57页 |
| §5．3 体系的光吸收研究 | 第57-59页 |
| 5．3．1 实验结果与讨论 | 第57-59页 |
| 第六章 总结与展望 | 第59-63页 |
| §6．1 主要实验结果与结论 | 第59页 |
| §6．2 今后展望 | 第59-63页 |
