| 致谢 | 第1-4页 |
| 内容提要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-14页 |
| 第一章 绪论 | 第14-28页 |
| ·分子光谱学的发展简史 | 第14-15页 |
| ·分子谱线线型、线宽、线强研究的历史 | 第15-17页 |
| ·研究光谱谱线线型、线宽和线强的科学和现实意义 | 第17-19页 |
| ·本论文的研究内容和章节安排 | 第19-21页 |
| 参考文献 | 第21-28页 |
| 第二章 谱线线型和线宽理论的简介 | 第28-45页 |
| ·谱线的基本概念 | 第28-29页 |
| ·吸收、发射与Einstein的辐射理论 | 第29-32页 |
| ·朗伯-比尔定律和谱线形状 | 第32-33页 |
| ·均匀和非均匀谱线增宽 | 第33页 |
| ·均匀增宽 | 第33页 |
| ·非均匀增宽 | 第33页 |
| ·谱线的基本线型 | 第33-35页 |
| ·洛伦兹线型 | 第34页 |
| ·高斯线型 | 第34页 |
| ·佛克脱线型 | 第34-35页 |
| ·谱线的展宽及其线宽度 | 第35-43页 |
| ·自然展宽的线宽度 | 第35-36页 |
| ·多普勒线宽 | 第36-40页 |
| ·碰撞增宽,即压致增宽 | 第40页 |
| ·功率展宽 | 第40-41页 |
| ·实验因素的增宽 | 第41-43页 |
| ·饱和展宽 | 第41-42页 |
| ·壁碰撞展宽 | 第42页 |
| ·飞行时间增宽 | 第42-43页 |
| ·实验仪器和技术本身的影响 | 第43页 |
| 参考文献 | 第43-45页 |
| 第三章 Voigt线型的理论研究 | 第45-67页 |
| ·谱线的综合线宽和线型函数 | 第45-50页 |
| ·理论推导 | 第45-46页 |
| ·多种线宽的合成 | 第46-50页 |
| ·两种均匀线宽的合成 | 第46-48页 |
| ·两种非均匀线宽的合成 | 第48-49页 |
| ·均匀线宽和非均匀线宽的合成 | 第49-50页 |
| ·Voigt线型函数的几种表达形式 | 第50-51页 |
| ·均匀增宽远小于非均匀增宽 | 第50页 |
| ·非均匀增宽远小于均匀增宽 | 第50-51页 |
| ·中间情形,即均匀增宽与非均匀增宽相比拟 | 第51页 |
| ·Voigt线型的线宽计算 | 第51-52页 |
| ·Voigt线型的计算方法 | 第52-58页 |
| ·直接给出计算值——数据表 | 第53-54页 |
| ·线性权重拟合法 | 第54-56页 |
| ·傅立叶变换法 | 第56-57页 |
| ·复函数模型的分段近似法 | 第57-58页 |
| ·等效线宽方法 | 第58页 |
| ·Voigt线型在谱线的多普勒线宽来源中的应用 | 第58-61页 |
| ·探索计算Voigt线型方法的意义 | 第61-62页 |
| ·一般性意义 | 第61-62页 |
| ·继续研究意义 | 第62页 |
| 参考文献 | 第62-67页 |
| 第四章 线宽的理论与实验研究 | 第67-87页 |
| ·压致展宽的理论研究 | 第67-75页 |
| ·洛伦兹碰撞理论 | 第67-68页 |
| ·威斯科夫理论(相位突变原理) | 第68-69页 |
| ·李特豪姆理论 | 第69页 |
| ·Anderson理论 | 第69-71页 |
| ·Anderson-Tsao-Curnutte理论 | 第71页 |
| ·Murphy-Boggs理论和Robert-Bonamy公式 | 第71-72页 |
| ·准静态近似 | 第72-73页 |
| ·谱线压致增宽理论的总结 | 第73页 |
| ·碰撞Dicke变窄 | 第73-74页 |
| ·压致增宽的线宽统一表达式 | 第74-75页 |
| ·压致展宽与温度的关系 | 第75页 |
| ·线宽的测量方法 | 第75-79页 |
| ·总线宽的测量 | 第75-76页 |
| ·压致展宽的测量方法 | 第76页 |
| ·温度依赖关系的测量 | 第76-79页 |
| ·线宽研究的发展 | 第79-81页 |
| ·线宽研究的未来 | 第81页 |
| 参考文献 | 第81-87页 |
| 第五章 计算Voigt线型的直和模型 | 第87-107页 |
| ·Voigt线型及其组成的两种线型的吸收系数 | 第87-90页 |
| ·基本概念和基本表达式 | 第87-88页 |
| ·两种情形下的吸收系数 | 第88-89页 |
| ·Voigt线型的吸收系数 | 第89-90页 |
| ·吸收系数的两种情况的分析和比较 | 第90-94页 |
| ·吸收线的中心部分 | 第90页 |
| ·吸收线的两翼 | 第90-91页 |
| ·小结 | 第91-94页 |
| ·直和模型思想的提出 | 第94-95页 |
| ·确定直和表达式的直和系数 | 第95-96页 |
| ·直和模型的结果和精确性 | 第96-99页 |
| ·直和模型与复函数模型的比较 | 第99-103页 |
| ·线宽误差的结果和比较 | 第99页 |
| ·计算面积的收敛速度比较 | 第99-102页 |
| ·比较的结论 | 第102-103页 |
| ·直和模型的优点和不足之处 | 第103-104页 |
| ·结论 | 第104-105页 |
| 参考文献 | 第105-107页 |
| 第六章 直和模型在光谱分析自动化研究中的应用 | 第107-121页 |
| ·分子光谱信息的获取 | 第107页 |
| ·光谱自动化研究历史 | 第107-109页 |
| ·谱线的自动获取 | 第107-109页 |
| ·硬件设备 | 第107-108页 |
| ·软件设计 | 第108-109页 |
| ·分子谱线的自动分析 | 第109页 |
| ·用直和模型实现自动化——计算机辅助分析实验谱程序 | 第109-115页 |
| ·设计辅助程序的目的 | 第109-110页 |
| ·噪声的分类及其与信号的分离和剔除 | 第110页 |
| ·自动获取谱线中心位置和强度的原理方法 | 第110-114页 |
| ·单一谱线情形的讨论 | 第112-113页 |
| ·多条谱线情形的讨论 | 第113-114页 |
| ·程序设计 | 第114-115页 |
| ·谱线极值的确定 | 第114-115页 |
| ·谱线个数的确定 | 第115页 |
| ·应用——分析TuFIR光谱 | 第115-116页 |
| ·可调远红外激光光谱简介 | 第115-116页 |
| ·自动程序对CHF_3分子的TuFIR光谱的应用 | 第116页 |
| ·自动化程序的效果和讨论 | 第116-119页 |
| 参考文献 | 第119-121页 |
| 第七章 NO分子的LMR光谱和饱和吸收兰姆凹陷谱线 | 第121-146页 |
| ·激光磁共振光谱技术 | 第121-124页 |
| ·基本概念及其发展历史 | 第121-122页 |
| ·LMR的工作原理 | 第122-123页 |
| ·LMR的特点 | 第123-124页 |
| ·实验装置 | 第124-126页 |
| ·LMR实验中采用的调制技术 | 第126-128页 |
| ·调制技术的简介 | 第126页 |
| ·调制技术对谱型的影响 | 第126-127页 |
| ·调制磁场信号对谱线信号形状的影响 | 第127-128页 |
| ·选NO作为研究对象的重要性 | 第128-129页 |
| ·NO的一般LMR谱 | 第129-130页 |
| ·低气压下样品分子的饱和吸收 | 第130-138页 |
| ·光谱的饱和吸收现象 | 第130页 |
| ·均匀谱线轮廓的饱和增宽 | 第130-132页 |
| ·非均匀谱线轮廓的饱和增宽 | 第132-138页 |
| ·NO的兰姆凹陷谱 | 第138页 |
| ·实验数据的采集 | 第138-140页 |
| 参考文献 | 第140-146页 |
| 第八章 Voigt线型的直和模型在NO的LMR光谱中的应用 | 第146-163页 |
| ·仿真程序 | 第146-150页 |
| ·建立仿真程序的意义 | 第146页 |
| ·仿真理论基础 | 第146-149页 |
| ·单一谱线的线型仿真理论模型 | 第146-148页 |
| ·多条谱线的仿真 | 第148-149页 |
| ·仿真程序设计 | 第149-150页 |
| ·谱线线型因子及谱线级次选择开关 | 第149页 |
| ·调制强度和调制率的影响 | 第149-150页 |
| ·仿真程序在NO的Q(2.5)谱线中的应用 | 第150-152页 |
| ·计算仿真的各谱线磁场中心位置、相对强度及调制率 | 第150-152页 |
| ·仿真程序的输入参数 | 第152页 |
| ·仿真程序的应用效果讨论 | 第152-156页 |
| ·线型的影响 | 第152-154页 |
| ·调制率的影响 | 第154页 |
| ·调制强度的影响 | 第154-155页 |
| ·总体效果仿真讨论 | 第155-156页 |
| ·拟合程序的设计 | 第156页 |
| ·拟合程序在兰姆凹陷谱中求气压增宽系数的应用 | 第156-160页 |
| ·简述NO的气压自增宽系数的发展 | 第156-158页 |
| ·拟合程序的输出结果——NO的气压自增宽系数 | 第158页 |
| ·本论文计算NO的自增宽系数与别人的比较 | 第158-160页 |
| 参考文献 | 第160-163页 |
| 第九章 用直和模型计算Voigt线型的NO实验谱的修正 | 第163-170页 |
| ·引入实验修正项的必要性 | 第163页 |
| ·计算实验谱所选取的线型函数的修正方法 | 第163-165页 |
| ·Voigt线型谱线远端的修正 | 第163-164页 |
| ·计算NO核自旋结构不可分辨的谱线参数的理论修正 | 第164-165页 |
| ·NO的LMR谱线的实验增宽修正 | 第165-166页 |
| ·激光谱线增宽的影响 | 第165页 |
| ·实验光谱仪的狭缝函数和调制增宽的影响 | 第165页 |
| ·数据采集方法对线宽的影响 | 第165-166页 |
| ·飞行时间增宽 | 第166页 |
| ·饱和增宽 | 第166页 |
| ·碰撞Dicke变窄 | 第166页 |
| ·NO的线宽 | 第166-169页 |
| ·引入修正项前的结果 | 第166页 |
| ·引入修正项后的结果 | 第166-169页 |
| 参考文献 | 第169-170页 |
| 第十章 总结和展望工作 | 第170-172页 |
| ·总结 | 第170页 |
| ·展望 | 第170-171页 |
| 参考文献 | 第171-172页 |
| 发表文章 | 第172-174页 |
| 第一作者文章 | 第172-173页 |
| 非第一作者文章 | 第173-174页 |
