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超二代微光像增管加速工作寿命试验探讨

摘要第1-6页
Abstract第6-9页
1 绪论第9-15页
   ·课题的研究背景、意义第9页
   ·微光像增强器发展简介第9-11页
   ·国内外发展状况第11-14页
     ·国内第11-12页
     ·国外微光像增强器可靠性试验现状第12-14页
   ·主要研究内容和安排第14-15页
2 基本理论分析第15-19页
   ·二代像增强管的工作寿命和工作寿命试验第15页
   ·一元线形回归和最小二乘法第15-16页
   ·一元线形回归方程的求解第16-18页
   ·辐射理论第18-19页
3 超二代微光像增强器工作寿命第19-22页
   ·工作寿命的定义第20页
   ·工作寿命试验分析第20-22页
4 影响像增强管工作寿命的因素第22-31页
   ·光电阴极第22-24页
     ·光电阴极衰退第22页
     ·光电阴极衰退因素分析第22-24页
   ·微通道板第24-31页
     ·微通道板寿命第26-27页
     ·离子反馈第27-28页
     ·离子阻挡层薄膜第28页
     ·微通道板电子清刷第28-29页
     ·MCP的离子清洗技术第29页
     ·材料对MCP的影响第29-31页
5 加速工作寿命试验第31-35页
   ·试验比较第31-32页
   ·失效模式第32页
   ·失效判据第32页
   ·试验方案第32页
   ·试验应力第32-33页
   ·试验设备第33页
   ·试验样品确定第33-34页
   ·试验预处理第34页
   ·试验时间第34-35页
6 试验数据分析第35-37页
   ·数据整理第35页
   ·数据分析第35-37页
7 结论第37-39页
致谢第39-40页
参考文献第40-42页
附表1第42-47页

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