| 内容提要 | 第1-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-29页 |
| ·金刚石的结构特征、性质及应用 | 第9-16页 |
| ·金刚石的晶体结构 | 第9-11页 |
| ·金刚石的性质及应用 | 第11-16页 |
| ·人工合成金刚石的历史 | 第16-18页 |
| ·低压气相沉积金刚石的制备技术简介 | 第18-23页 |
| ·热丝CVD 法 | 第18-20页 |
| ·等离子体CVD 法 | 第20-23页 |
| ·燃烧火焰CVD 法 | 第23页 |
| ·CVD 金刚石的生长机理简介 | 第23-27页 |
| ·论文的选题及主要研究内容 | 第27-29页 |
| 第二章 实验设备 | 第29-41页 |
| ·MPCVD 装置 | 第29-38页 |
| ·MPCVD 技术简介 | 第29-32页 |
| ·本文采用的MPCVD 装置介绍 | 第32-35页 |
| ·MPCVD 法制备金刚石膜的工艺 | 第35-37页 |
| ·MPCVD 法制备大尺寸金刚石单晶的工艺 | 第37-38页 |
| ·金刚石的表征技术 | 第38-41页 |
| 第三章 多晶金刚石膜的制备及其生长特性的研究 | 第41-70页 |
| ·CVD 多晶金刚石膜的生长特性 | 第41-55页 |
| ·碳源浓度对金刚石膜生长的影响 | 第41-47页 |
| ·微波功率对金刚石膜生长的影响 | 第47-53页 |
| ·氧气对金刚石膜生长的影响 | 第53-55页 |
| ·金刚石膜内的应变研究 | 第55-60页 |
| ·金刚石膜的内应变研究方法 | 第56-57页 |
| ·硅基底上金刚石膜的宏观应变和微观应变随甲烷浓度的变化 | 第57-60页 |
| ·金刚石膜表面的杂质键合研究 | 第60-68页 |
| ·本章小结 | 第68-70页 |
| 第四章 光学级多晶金刚石自支撑膜的光学透过性能研究 | 第70-85页 |
| ·光学级自支撑膜研究进展 | 第70-72页 |
| ·金刚石膜光透过率理论极限值的计算 | 第72-74页 |
| ·光学级金刚石自支撑膜红外光透过率的研究 | 第74-79页 |
| ·甲烷浓度为2%的条件下制备的金刚石自支撑膜的红外光透过率 | 第75-76页 |
| ·甲烷浓度为4%的条件下制备的金刚石自支撑膜的红外光透过率 | 第76-79页 |
| ·光学级金刚石自支撑膜紫外-可见光透过率研究 | 第79-81页 |
| ·光学级金刚石自支撑膜的机械性能 | 第81-84页 |
| ·本章小结 | 第84-85页 |
| 第五章 同质外延高速生长大尺寸CVD 金刚石单晶及其生长特性的研究 | 第85-102页 |
| ·人工合成大尺寸单晶金刚石的研究进展 | 第85-87页 |
| ·籽晶以及籽晶托的设计 | 第87-89页 |
| ·CVD 单晶金刚石的同质外延高速生长 | 第89-91页 |
| ·CVD 单晶金刚石表面形貌研究 | 第91-94页 |
| ·CVD 单晶金刚石结晶性能 | 第94-95页 |
| ·CVD 单晶金刚石内的氮分布的研究(PL) | 第95-101页 |
| ·CVD 单晶金刚石的PL 谱 | 第96-97页 |
| ·CVD 单晶金刚石上表面以及内部的氮分布 | 第97-101页 |
| ·本章小结 | 第101-102页 |
| 第六章 全文总结 | 第102-104页 |
| 参考文献 | 第104-120页 |
| 攻读博士期间发表和提交的论文 | 第120-121页 |
| 致谢 | 第121-123页 |
| 中文摘要 | 第123-127页 |
| Abstract | 第127-130页 |
