| 摘要 | 第1-7页 |
| ABSTRACT | 第7-9页 |
| 目录 | 第9-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-26页 |
| ·超憎水性薄膜的基础 | 第11-15页 |
| ·TiO_2薄膜的光催化基础 | 第15-18页 |
| ·超憎水性氧化钛薄膜的制备 | 第18-20页 |
| ·等离子体增强化学气相沉积 | 第20-24页 |
| ·本文的研究内容和意义 | 第24-26页 |
| 第二章 实验设计 | 第26-35页 |
| ·等离子体增强化学气相沉积实验 | 第26-31页 |
| ·反应气体与单体原料 | 第31页 |
| ·纳米薄膜表征以及光吸收特性测试 | 第31-33页 |
| ·沉积过程的等离子体发射光谱诊断 | 第33-35页 |
| 第三章 等离子体化学气相沉积薄膜的分析测试 | 第35-50页 |
| ·薄膜沉积厚度随功率的变化 | 第35-36页 |
| ·薄膜的表面形貌 | 第36-40页 |
| ·薄膜的化学组成分析 | 第40-41页 |
| ·薄膜的化学结构分析 | 第41-43页 |
| ·薄膜的结晶分析 | 第43-44页 |
| ·薄膜的光吸收特性测试 | 第44-46页 |
| ·薄膜的湿润性能测试 | 第46-48页 |
| 本章小结 | 第48-50页 |
| 第四章 脉冲偏压以及退火条件对等离子体增强沉积氧化钛薄膜的影响 | 第50-62页 |
| ·薄膜沉积速度随偏压的变化 | 第50页 |
| ·脉冲偏压对薄膜的表面形貌的影响 | 第50-53页 |
| ·脉冲偏压和高温退火对薄膜的化学结构的影响 | 第53-54页 |
| ·脉冲偏压对薄膜的光学性能的影响 | 第54-56页 |
| ·退火对薄膜的表面形貌的影响 | 第56-57页 |
| ·高温退火对薄膜的表面化学成分的影响 | 第57页 |
| ·退火对薄膜的晶形的影响 | 第57-58页 |
| ·薄膜的亲水性研究 | 第58-61页 |
| 本章小结 | 第61-62页 |
| 第五章 结论与展望 | 第62-64页 |
| 参考文献 | 第64-69页 |
| 攻读硕士学位期间发表的学术论文 | 第69-70页 |
| 致谢 | 第70页 |