新型晶体生长装置与KDP晶体快速生长
| 摘要 | 第1-3页 |
| Abstract | 第3-6页 |
| 引言 | 第6-9页 |
| 第一章 溶液降温法快速生长KDP晶体 | 第9-20页 |
| ·溶液降温法生长晶体 | 第9-11页 |
| ·晶体生长机制 | 第11-14页 |
| ·溶液中的成核 | 第14-15页 |
| ·KDP晶体的快速生长 | 第15-18页 |
| ·国外KDP晶体快速生长技术的发展过程及研究现状 | 第16-17页 |
| ·国内KDP晶体快速生长技术的研究现状 | 第17-18页 |
| ·点状籽晶法快速生长KDP晶体 | 第18-20页 |
| 第二章 KDP晶体快速生长的溶液稳定性及装置 | 第20-31页 |
| ·KDP晶体快速生长的溶液稳定性 | 第20-23页 |
| ·国外对KDP晶体快速生长溶液稳定性的研究 | 第21-22页 |
| ·国内对KDP晶体快速生长溶液稳定性的研究 | 第22-23页 |
| ·KDP晶体快速生长的生长装置 | 第23-31页 |
| ·国内外对KDP晶体生长装置的研究 | 第23-28页 |
| ·快速生长KDP晶体的锥形底装置 | 第28-31页 |
| 第三章 锥形底装置中快速生长KDP晶体 | 第31-44页 |
| ·育晶装置与原料 | 第31页 |
| ·籽晶的制备 | 第31页 |
| ·饱和点的测定 | 第31-32页 |
| ·晶体生长实验 | 第32-35页 |
| ·传统晶体生长装置中的晶体实验 | 第33-34页 |
| ·锥形底晶体快速生长装置中的晶体实验 | 第34-35页 |
| ·不同生长条件对KDP晶体溶液稳定性的影响 | 第35-37页 |
| ·锥形底装置的温场测定 | 第37-42页 |
| ·轴向温场测定 | 第37-39页 |
| ·径向温场测定 | 第39-42页 |
| ·改进后的锥形底装置的晶体生长实验 | 第42-43页 |
| ·结果与讨论 | 第43-44页 |
| 第四章 KDP晶体的缺陷分析 | 第44-54页 |
| ·KDP晶体的缺陷种类 | 第44-45页 |
| ·快速生长KDP晶体中的位错 | 第45-48页 |
| ·快速生长KDP晶体中的包裹体 | 第48-50页 |
| ·KDP晶体中包裹体形成的原因 | 第48-49页 |
| ·扫描电子显微镜观察KDP晶体中的包裹体 | 第49-50页 |
| ·快速生长KDP晶体中的金属杂质离子 | 第50-52页 |
| ·KDP晶体中X射线同步辐射分析 | 第52-54页 |
| 结论 | 第54-55页 |
| 参考文献 | 第55-58页 |
| 作者攻读硕士学位期间已发表和已接收的文章 | 第58-59页 |
| 致谢 | 第59-60页 |
