溅射沉积Cu/Mo纳米多层膜结构与性能研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-7页 |
| 目录 | 第7-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-24页 |
| ·引言 | 第10-11页 |
| ·纳米多层膜 | 第11-17页 |
| ·纳米多层膜概念 | 第11页 |
| ·纳米多层膜分类 | 第11-13页 |
| ·纳米多层膜制备手段 | 第13-17页 |
| ·纳米多层膜特殊性能 | 第17-19页 |
| ·力学特性 | 第17-18页 |
| ·电学特性 | 第18页 |
| ·光学特性 | 第18页 |
| ·磁学特性 | 第18-19页 |
| ·其他特性 | 第19页 |
| ·Cu-X金属多层膜研究现状 | 第19-20页 |
| ·本论文选题依据、研究内容及技术路线 | 第20-24页 |
| ·选题依据 | 第20-22页 |
| ·研究内容及目的 | 第22-23页 |
| ·技术路线 | 第23-24页 |
| 第二章 实验部分 | 第24-36页 |
| ·薄膜制备方法选择 | 第24-26页 |
| ·磁控溅射原理研究 | 第24-25页 |
| ·影响薄膜制备的因素及其确定 | 第25-26页 |
| ·实验原料的准备及实验设备简介 | 第26-29页 |
| ·实验原料 | 第26-27页 |
| ·靶材及衬底的清洗 | 第27-28页 |
| ·实验设备简介 | 第28-29页 |
| ·实验过程 | 第29-32页 |
| ·实验过程 | 第29-30页 |
| ·实验制备样品的设计参数 | 第30-32页 |
| ·Cu、Mo组元的基本性质 | 第32页 |
| ·样品分析测试方法 | 第32-36页 |
| ·薄膜厚度测量 | 第32页 |
| ·薄膜结构的X射线衍射(XRD)分析 | 第32-33页 |
| ·薄膜结构的高分辨透射电镜(TEM)分析 | 第33页 |
| ·薄膜表面形貌的原子力显微镜(AFM)观察 | 第33-34页 |
| ·薄膜电阻率的测量 | 第34页 |
| ·薄膜显微硬度测试 | 第34-35页 |
| ·薄膜屈服强度和延性的单轴拉伸测试 | 第35-36页 |
| 第三章 Cu/Mo纳米多层膜结构研究 | 第36-50页 |
| ·薄膜制备工艺探究 | 第36-37页 |
| ·薄膜结构的XRD分析 | 第37-41页 |
| ·不同调制周期Cu/Mo纳米多层膜XRD分析 | 第37-39页 |
| ·不同调制比Cu/Mo多层膜XRD分析 | 第39-41页 |
| ·薄膜结构的透射电镜(TEM)分析 | 第41-43页 |
| ·薄膜的原子力扫描镜像(AFM)分析 | 第43-48页 |
| ·不同调制周期Cu/Mo纳米多层膜AFM分析 | 第43-45页 |
| ·不同调制比Cu/Mo纳米多层膜AFM分析 | 第45-48页 |
| ·本章小结 | 第48-50页 |
| 第四章 Cu/Mo纳米多层膜性能研究 | 第50-68页 |
| ·Cu/Mo纳米多层膜显微硬度测试 | 第50-53页 |
| ·硬度和弹性模量测量原理和方法 | 第50-52页 |
| ·连续刚度测量原理 | 第52-53页 |
| ·Cu/Mo纳米多层膜硬度 | 第53-57页 |
| ·Cu/Mo纳米多层膜弹性模量 | 第57-60页 |
| ·Cu/Mo纳米多层膜屈服强度 | 第60-63页 |
| ·Cu/Mo纳米多层膜的延性 | 第63-65页 |
| ·Cu/Mo纳米多层膜电阻率 | 第65-67页 |
| ·本章小结 | 第67-68页 |
| 第五章 结论 | 第68-70页 |
| 致谢 | 第70-72页 |
| 参考文献 | 第72-80页 |
| 附录A: 攻读硕士学位期间发表论文及合作专利申请 | 第80-81页 |
| 附录B: 攻读硕士学位期间参加科研项目 | 第81页 |
