| 内容提要 | 第1-9页 |
| 第1章 绪论 | 第9-28页 |
| ·课题的研究背景 | 第9-10页 |
| ·半导体光催化的机理及其影响因素 | 第10-14页 |
| ·半导体光催化的机理 | 第10-13页 |
| ·影响半导体光催化活性的主要因素 | 第13-14页 |
| ·半导体光催化剂的改性 | 第14-17页 |
| ·贵金属沉积 | 第14-15页 |
| ·掺杂元素 | 第15页 |
| ·半导体复合 | 第15-16页 |
| ·光敏化 | 第16-17页 |
| ·半导体表面修饰 | 第17页 |
| ·半导体光催化剂的制备 | 第17-22页 |
| ·溶胶凝胶法 | 第17-18页 |
| ·沉淀法 | 第18页 |
| ·高温固相反应 | 第18-19页 |
| ·高能球磨法 | 第19-20页 |
| ·喷雾热分解法 | 第20页 |
| ·W/O型微乳液法 | 第20页 |
| ·水热法 | 第20-22页 |
| ·半导体光催化的应用 | 第22-24页 |
| ·污水处理 | 第22页 |
| ·气体净化 | 第22页 |
| ·光催化杀菌 | 第22-23页 |
| ·防污、自洁化材料 | 第23页 |
| ·处理重金属离子 | 第23-24页 |
| ·BiVO_4的研究 | 第24-26页 |
| ·BiVO_4的应用 | 第24页 |
| ·BiVO_4的结构 | 第24-26页 |
| ·本文的研究内容及意义 | 第26-28页 |
| 第2章 BiVO_4的制备及表征 | 第28-35页 |
| ·实验试剂及仪器设备 | 第28-29页 |
| ·实验试剂 | 第28页 |
| ·主要仪器设备 | 第28-29页 |
| ·BiVO_4的制备 | 第29-31页 |
| ·化学反应方程式 | 第30页 |
| ·钒酸铋的制备工艺 | 第30-31页 |
| ·实验表征 | 第31-33页 |
| ·XRD测试 | 第31-32页 |
| ·扫描电镜 | 第32页 |
| ·BET | 第32页 |
| ·外拉曼光谱 | 第32页 |
| ·紫外-可见漫反射折射光谱(UV-VIS-DRS) | 第32-33页 |
| ·产品光催化性能表征 | 第33-35页 |
| ·最大波长的选取 | 第33-34页 |
| ·产品光催化性能的测试 | 第34-35页 |
| 第3章 合成BiVO_4的最佳条件及分析 | 第35-53页 |
| ·反应前驱体对催化性能的影响 | 第35-40页 |
| ·反应PH值对合成BiVO_4晶型及催化性能的影响 | 第40-44页 |
| ·反应温度对钒酸铋催化性能的影响 | 第44-47页 |
| ·反应时间对BiVO_4催化性能的影响 | 第47-49页 |
| ·反应浓度对钒酸铋粒径及催化性能的影响 | 第49-52页 |
| ·本章小结 | 第52-53页 |
| 第4章 BiVO_4的掺杂及催化性质研究 | 第53-66页 |
| ·钒酸铋的掺杂改性研究 | 第53-58页 |
| ·不同种类离子掺杂对催化性能影响 | 第54-57页 |
| ·不同浓度掺杂对催化性能影响 | 第57-58页 |
| ·钒酸铋催化性能的研究 | 第58-63页 |
| ·催化剂用量对降解率的影响 | 第58-59页 |
| ·超声波处理对降解率的影响 | 第59-60页 |
| ·不同光源对降解率的影响 | 第60-62页 |
| ·降解不同染料 | 第62-63页 |
| ·吸附对催化性能的影响 | 第63页 |
| ·BiVO_4的稳定性研究 | 第63-65页 |
| ·本章小结 | 第65-66页 |
| 第5章 结论 | 第66-67页 |
| 参考文献 | 第67-74页 |
| 致谢 | 第74-75页 |
| 摘要 | 第75-77页 |
| Abstract | 第77-79页 |