| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-9页 |
| 第一章 文献综述 | 第9-26页 |
| ·防护镀层技术 | 第9-10页 |
| ·薄膜形成原理 | 第10-14页 |
| ·晶核的形成及其生长方式 | 第10-11页 |
| ·薄膜形成的热力学条件 | 第11-12页 |
| ·晶核形成速度 | 第12-14页 |
| ·离子镀技术的发展及现状 | 第14-15页 |
| ·离子镀 | 第14页 |
| ·离子镀原理 | 第14-15页 |
| ·多弧离子镀技术 | 第15-20页 |
| ·多弧离子镀原理 | 第16页 |
| ·多弧离子镀工艺参数 | 第16-18页 |
| ·多弧离子镀技术的针孔及颗粒问题 | 第18-19页 |
| ·多弧离子镀技术的应用 | 第19-20页 |
| ·多弧离子镀技术的发展 | 第20页 |
| ·离子氮化 | 第20-22页 |
| ·离子氮化理论 | 第20-21页 |
| ·离子渗氮的主要特点 | 第21-22页 |
| ·离子氮化与PVD 复合处理 | 第22-24页 |
| ·PN 与PVD 复合处理在TiN 涂层上的应用 | 第22页 |
| ·PN+TiN 薄膜的研究进展 | 第22-24页 |
| ·本研究的内容及意义 | 第24-25页 |
| ·本研究的内容 | 第24-25页 |
| ·本研究的意义 | 第25页 |
| ·本研究执行的技术路线 | 第25-26页 |
| 第二章 实验设备及方法 | 第26-33页 |
| ·实验材料 | 第26页 |
| ·实验前基体试样的预处理 | 第26页 |
| ·实验设备 | 第26-27页 |
| ·实验流程 | 第27-29页 |
| ·辉光清洗原理及作用 | 第28页 |
| ·弧光清洗原理及作用 | 第28-29页 |
| ·工艺设计 | 第29页 |
| ·性能的检测 | 第29-33页 |
| ·结合力的测定 | 第29-30页 |
| ·显微硬度的测定 | 第30页 |
| ·薄膜表面形貌、显微结构的观测 | 第30-31页 |
| ·耐磨性的检测 | 第31-33页 |
| 第三章 一体化制备PN+TIN 薄膜的工艺及性能研究 | 第33-41页 |
| ·多弧离子镀制备PN+TIN 薄膜的工艺研究 | 第33-37页 |
| ·正交试验及沉积工艺 | 第33页 |
| ·正交试验结果 | 第33-34页 |
| ·正交试验结果分析 | 第34-37页 |
| ·正交试验后的工艺优化 | 第37页 |
| ·最佳工艺下制备PN+TIN 薄膜的形貌观察及物相分析 | 第37-40页 |
| ·PN+TiN 薄膜形貌观察 | 第37-39页 |
| ·PN+TiN 薄膜物相分析 | 第39-40页 |
| ·本章结论 | 第40-41页 |
| 第四章 氮化基体表面沉积TIN 薄膜的工艺和性能研究 | 第41-50页 |
| ·制备工艺 | 第41页 |
| ·实验结果及分析 | 第41-46页 |
| ·渗氮时间对薄膜性能的影响 | 第41-43页 |
| ·渗氮时间对薄膜表面形貌的影响 | 第43-44页 |
| ·薄膜截面形貌的观察 | 第44-45页 |
| ·截面硬度梯度比较 | 第45-46页 |
| ·PN+TIN 薄膜的耐磨性研究 | 第46-49页 |
| ·单一TiN 薄膜与PN+TiN 薄膜的耐磨性对比 | 第46-48页 |
| ·磨损机理分析 | 第48-49页 |
| ·本章结论 | 第49-50页 |
| 第五章 复合处理改善涂层硬度及结合力的机理探讨 | 第50-53页 |
| ·复合处理改善涂层硬度的机理分析 | 第50-51页 |
| ·复合处理改善涂层结合力的机理分析 | 第51-52页 |
| ·本章结论 | 第52-53页 |
| 第六章 结论 | 第53-54页 |
| 参考文献 | 第54-57页 |
| 致谢 | 第57-58页 |
| 附录 | 第58页 |
