邻溴甲苯和对溴甲苯多光子电离质谱
| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-8页 |
| 第一章 综述 | 第8-14页 |
| ·多光子电离(MPI) | 第8-9页 |
| ·多光子电离解离的动力学机制 | 第9-10页 |
| ·飞行时间质谱(TOF-MS) | 第10页 |
| ·Gaussian程序简介 | 第10-12页 |
| ·计算原理 | 第11页 |
| ·基组介绍 | 第11-12页 |
| ·IRC计算 | 第12页 |
| ·课题研究现状及展望 | 第12-14页 |
| 第二章 实验装置和实验方法 | 第14-17页 |
| ·实验装置 | 第14-16页 |
| ·飞行时间质谱系统 | 第14-15页 |
| ·激光光源 | 第15页 |
| ·信号探测与数据采集处理系统 | 第15-16页 |
| ·实验方法 | 第16-17页 |
| ·实验过程中的时序控制 | 第16页 |
| ·MPI-TOF质谱实验方法 | 第16-17页 |
| 第三章 邻溴甲苯多光子电离质谱 | 第17-25页 |
| ·实验过程 | 第17页 |
| ·实验结果与讨论 | 第17-24页 |
| ·不同脉冲激光波长下的MPI-MS | 第17-19页 |
| ·母体分子的MPI过程 | 第19-20页 |
| ·碎片离子的MPI过程 | 第20-21页 |
| ·激光相对脉冲阀延时对质谱的影响 | 第21-22页 |
| ·激光强度变化对质谱的影响 | 第22-23页 |
| ·载气压变化对质谱的影响 | 第23-24页 |
| ·小结 | 第24-25页 |
| 第四章 邻溴甲苯光解过程中的异构 | 第25-28页 |
| ·计算方法 | 第25页 |
| ·计算结果与讨论 | 第25-27页 |
| ·小结 | 第27-28页 |
| 第五章 对溴甲苯多光子电离质谱 | 第28-35页 |
| ·实验 | 第28页 |
| ·实验结果与讨论 | 第28-32页 |
| ·母体分子的MPI过程 | 第29-30页 |
| ·碎片离子的MPI过程 | 第30-32页 |
| ·激光强度变化对质谱的影响 | 第32-33页 |
| ·激光强度变化对信号强度的影响 | 第32-33页 |
| ·激光强度对离子谱峰位置的影响 | 第33页 |
| ·小结 | 第33-35页 |
| 第六章 申苯多光子电离质谱 | 第35-38页 |
| ·不同脉冲激光波长下的MPI-MS | 第35-36页 |
| ·质谱分析 | 第36-37页 |
| ·小结 | 第37-38页 |
| 第七章 全文总结 | 第38-39页 |
| 参考文献 | 第39-43页 |
| 在校期间所做的工作 | 第43-44页 |
| 致谢 | 第44页 |
