致谢 | 第1-7页 |
摘要 | 第7-10页 |
ABSTRACT | 第10-19页 |
1 绪论 | 第19-46页 |
·卤键简介 | 第19-21页 |
·卤键概念和特征 | 第19-20页 |
·卤键给体和受体 | 第20-21页 |
·卤键的研究现状 | 第21-29页 |
·卤键应用研究 | 第22-27页 |
·卤键理论研究 | 第27-29页 |
·研究方法简介 | 第29-41页 |
·基本量子化学方法及理论 | 第29-33页 |
·弱作用分析方法 | 第33-39页 |
·杂化量子力学-分子力学方法 | 第39-40页 |
·分子动力学 | 第40-41页 |
·研究内容、目的及主要创新 | 第41-46页 |
·研究内容 | 第41-43页 |
·研究目的及意义 | 第43-44页 |
·主要创新 | 第44-46页 |
2 不饱和烃与多卤分子间协同效应对Hal/π作用的理论研究 | 第46-57页 |
·研究背景 | 第46-48页 |
·计算方法 | 第48页 |
·结果和讨论 | 第48-56页 |
·复合物构型和作用能 | 第48-51页 |
·协同效应对Hal/π反应中电荷转移的影响 | 第51-52页 |
·Hal/π作用AIM分析 | 第52-56页 |
·本章小结 | 第56-57页 |
3 P-Cl片段与电子给体卤键作用的理论研究 | 第57-67页 |
·研究背景 | 第57-58页 |
·计算方法 | 第58-59页 |
·结果与讨论 | 第59-66页 |
·优化构型与作用能 | 第59-61页 |
·电荷转移 | 第61-63页 |
·NBO分析 | 第63-65页 |
·AIM分析 | 第65-66页 |
·本章小结 | 第66-67页 |
4 氯化铜复合物的DFT模拟:二氯·一氨·一(3溴吡啶)合铜(Ⅱ)(CuCl_2(NH_3)(NC_5H_4Br-3))中吡啶溴与金属配体卤键作用的理论研究 | 第67-80页 |
·研究背景 | 第67-69页 |
·计算方法和实验过程 | 第69-70页 |
·计算方法 | 第69页 |
·实验过程 | 第69-70页 |
·结果与讨论 | 第70-79页 |
·构型与作用能 | 第70-73页 |
·NBO分析 | 第73-75页 |
·AIM分析 | 第75-76页 |
·合成配合物构型 | 第76-79页 |
·本章小结 | 第79-80页 |
5 四氯吡啶及其金属[Cu~Ⅰ,Zn~Ⅱ]配合物与卤离子成卤键的比较研究:M-C-X…X’的理论研究 | 第80-93页 |
·研究背景 | 第80-82页 |
·计算方法和过程 | 第82-83页 |
·计算方法 | 第82页 |
·计算过程 | 第82-83页 |
·结果和讨论 | 第83-92页 |
·端卤的静电势分布 | 第83-85页 |
·配位导致电子密度差 | 第85-86页 |
·电子构型分析 | 第86-87页 |
·优化构型和作用能量 | 第87-88页 |
·NPA分析 | 第88-90页 |
·SAPT分析 | 第90-92页 |
·本章小结 | 第92-93页 |
6 核苷间C-Br…O-P键的ONIOM计算:核酸内卤键的理论研究 | 第93-110页 |
·研究背景 | 第93-95页 |
·理论模型和计算方法 | 第95-97页 |
·模型的建立 | 第95-96页 |
·计算方法 | 第96-97页 |
·结果与讨论 | 第97-109页 |
·卤键约化密度梯度等值面 | 第97-99页 |
·ONIOM计算 | 第99-101页 |
·卤键作用的电子局域化分析 | 第101-106页 |
·卤键对局部构型的影响 | 第106-109页 |
·本章小结 | 第109-110页 |
7. 卤化配体的Amber模拟:蛋白质中卤键动力学行为的点电荷模型初探 | 第110-116页 |
·研究背景 | 第110-111页 |
·理论模型和计算方法 | 第111-113页 |
·模型的建立 | 第111-112页 |
·计算方法 | 第112-113页 |
·结果与讨论 | 第113-115页 |
·点电荷拟合结果 | 第113页 |
·动力学模拟结果 | 第113-115页 |
·本章小结 | 第115-116页 |
8 总结与展望 | 第116-120页 |
·总结 | 第116-119页 |
·展望 | 第119-120页 |
参考文献 | 第120-154页 |
附录 | 第154-155页 |