基于模板法的亚波长微结构的制备与减反射性能研究
| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-23页 |
| ·亚波长微结构的衍射理论 | 第8-11页 |
| ·矢量衍射理论概述 | 第9-10页 |
| ·等效介质理论概述 | 第10-11页 |
| ·亚波长微结构的制备、特性与应用 | 第11-21页 |
| ·亚波长微结构的制备技术 | 第11-14页 |
| ·亚波长微结构的减反射性能 | 第14-17页 |
| ·周期性亚波长纳米微结构的应用 | 第17-18页 |
| ·随机亚波长微结构的应用 | 第18-21页 |
| ·课题提出的目的与依据 | 第21-22页 |
| ·本文的主要研究内容 | 第22-23页 |
| 第二章 矢量衍射理论与等效介质理论 | 第23-31页 |
| ·矢量衍射理论 | 第23-26页 |
| ·等效介质理论 | 第26页 |
| ·反应离子刻蚀的基本原理 | 第26-29页 |
| ·本章小结 | 第29-31页 |
| 第三章 周期性亚波长微结构的制备及性能研究 | 第31-54页 |
| ·自组装合成二维胶体晶体模板 | 第31-44页 |
| ·实验部分 | 第31-33页 |
| ·实验材料及仪器 | 第31页 |
| ·无皂乳液聚合法合成单分散性PS微球 | 第31-32页 |
| ·衬底及其清水处理 | 第32页 |
| ·二维胶体晶体的组装过程 | 第32-33页 |
| ·样品的表征 | 第33页 |
| ·结果与讨论 | 第33-44页 |
| ·单分散聚苯乙烯微球形貌控制 | 第33-34页 |
| ·二维胶体晶体的自组装机理分析 | 第34-37页 |
| ·二维胶体晶体自组装过程中缺陷的产生机理 | 第37-43页 |
| ·大面积低缺陷密度的胶体晶体模板 | 第43-44页 |
| ·存在的问题 | 第44页 |
| ·反应离子刻蚀周期性亚波长微结构 | 第44-52页 |
| ·实验部分 | 第44页 |
| ·实验过程 | 第44页 |
| ·结果与讨论 | 第44-52页 |
| ·反应离子刻蚀二氧化硅 | 第44-45页 |
| ·亚波长微结构的形貌及减反射性能 | 第45-51页 |
| ·存在的问题 | 第51-52页 |
| ·本章小结 | 第52-54页 |
| 第四章 随机亚波长微结构的制备及性能 | 第54-74页 |
| ·亚波长纳米多孔二氧化硅薄膜 | 第54-63页 |
| ·实验部分 | 第54-55页 |
| ·试剂与仪器 | 第54页 |
| ·单分散二氧化硅胶体粒子的合成 | 第54页 |
| ·提拉法合成亚波长多孔二氧化硅薄膜 | 第54页 |
| ·激光损伤阈值测试 | 第54-55页 |
| ·结果与讨论 | 第55-63页 |
| ·亚波长多孔二氧化硅薄膜的组装过程 | 第55-56页 |
| ·亚波长多孔二氧化硅薄膜的增透特性 | 第56-61页 |
| ·损伤阈值 | 第61页 |
| ·抗污染特性 | 第61-63页 |
| ·存在的问题 | 第63页 |
| ·基于随机掩模的亚波长微结构的制备与性能 | 第63-73页 |
| ·实验部分 | 第63-64页 |
| ·金/银纳米粉末的合成 | 第63页 |
| ·提拉法合成高密度岛状金属模板及后续处理 | 第63-64页 |
| ·反应离子刻蚀随机亚波长微结构 | 第64页 |
| ·结果与讨论 | 第64-73页 |
| ·金/银随机掩模的表面形貌 | 第64-69页 |
| ·随机亚波长微结构的形貌及减反射性能 | 第69-73页 |
| ·本章小结 | 第73-74页 |
| 第五章 总结与展望 | 第74-76页 |
| 致谢 | 第76-77页 |
| 参考文献 | 第77-82页 |
| 附录 | 第82页 |
