工业循环水高频电磁场阻垢机理和试验研究
| 中文摘要 | 第1-4页 |
| 英文摘要 | 第4-8页 |
| 1 绪论 | 第8-17页 |
| ·课题研究的目的和意义 | 第8-9页 |
| ·循环冷却水系统的污垢形成原因和分类 | 第9-11页 |
| ·国内外研究现状 | 第11-16页 |
| ·化学方法 | 第11-13页 |
| ·物理方法 | 第13-16页 |
| ·研究内容 | 第16-17页 |
| 2 高频电磁场阻垢的相关理论 | 第17-26页 |
| ·污垢的形成过程 | 第17-19页 |
| ·晶核的形成 | 第17-18页 |
| ·晶体生长 | 第18页 |
| ·晶体聚集 | 第18-19页 |
| ·影响污垢形成的因素 | 第19-20页 |
| ·高频电磁水处理装置的电磁模型 | 第20-22页 |
| ·频谱分析 | 第22-24页 |
| ·高频电磁水处理的机理 | 第24-26页 |
| 3 变频水处理装置的设计 | 第26-45页 |
| ·直流稳压电源设计 | 第27页 |
| ·信号检测电路 | 第27-36页 |
| ·测量参数的选择 | 第28-29页 |
| ·检测电路的设计 | 第29-36页 |
| ·高频信号发生电路 | 第36-42页 |
| ·DDS 的基本原理 | 第37-39页 |
| ·DDS 芯片 | 第39-41页 |
| ·滤波模块 | 第41-42页 |
| ·功率放大部分 | 第42-43页 |
| ·软件设计 | 第43-44页 |
| ·本章小结 | 第44-45页 |
| 4 静态阻垢试验研究 | 第45-55页 |
| ·静态试验的目的和试验装置 | 第45页 |
| ·试验的测量方法和原理 | 第45-47页 |
| ·电导率的测量 | 第45-46页 |
| ·扫描电子显微镜（SEM） | 第46-47页 |
| ·不同频率下的阻垢试验研究 | 第47-50页 |
| ·不同钙离子浓度下的抗垢试验研究 | 第50-51页 |
| ·电磁场处理后的记忆效应 | 第51页 |
| ·扫描电镜SEM | 第51-53页 |
| ·静态试验结果分析 | 第53-55页 |
| 5 动态循环水防垢、除垢的试验研究 | 第55-67页 |
| ·动态试验装置和试验步骤 | 第55-56页 |
| ·电磁场对溶液相关理化参数的影响 | 第56-63页 |
| ·利用人工模拟硬水进行的动态除垢试验研究 | 第63-65页 |
| ·动态试验结果分析 | 第65-67页 |
| 6 结论与展望 | 第67-69页 |
| 致谢 | 第69-70页 |
| 参考文献 | 第70-73页 |
| 附录：作者在攻读学位期间发表的论文目录 | 第73页 |
