空间极紫外成像仪器多层膜反射镜研究
摘要 | 第1-6页 |
Abstract | 第6-11页 |
第一章 绪论 | 第11-29页 |
·引言 | 第11-12页 |
·太阳活动 | 第12-14页 |
·人类观测太阳的历史进程 | 第14-18页 |
·中国太阳观测进展 | 第18页 |
·极紫外正入射太阳望远镜 | 第18-19页 |
·地球等离子体层 | 第19-24页 |
·地球磁层 | 第19-20页 |
·地球等离子体层 | 第20-22页 |
·地球等离子体层观测 | 第22-24页 |
·月基极紫外相机 | 第24-26页 |
·极紫外多层膜技术发展 | 第26-27页 |
·本论文主要研究内容 | 第27-29页 |
第二章 极紫外多层膜设计 | 第29-53页 |
·材料的光学常数 | 第29-32页 |
·极紫外多层膜理论 | 第32-38页 |
·单一界面的反射 | 第32-34页 |
·理想多层膜系理论 | 第34-36页 |
·运动学理论和傅里叶变换 | 第36-37页 |
·非理想界面反射率的降低 | 第37-38页 |
·多层膜结构设计 | 第38-51页 |
·材料的选择 | 第38-40页 |
·两种材料多层膜设计 | 第40-46页 |
·三种材料多层膜设计 | 第46-47页 |
·双通道多层膜反射镜设计 | 第47-48页 |
·杂光光谱的抑制 | 第48-51页 |
·本章小结 | 第51-53页 |
第三章 极紫外多层膜制备 | 第53-73页 |
·真空及真空系统 | 第53-56页 |
·溅射镀膜技术 | 第56-64页 |
·等离子体基本概念 | 第56-57页 |
·辉光放电技术 | 第57-58页 |
·溅射镀膜技术 | 第58-61页 |
·磁控溅射镀膜技术 | 第61-64页 |
·磁控溅射镀膜工艺 | 第64-71页 |
·薄膜的生长过程 | 第64-65页 |
·镀膜工艺参数 | 第65-69页 |
·极紫外多层膜制备 | 第69-71页 |
·本章小结 | 第71-73页 |
第四章 极紫外多层膜检测 | 第73-85页 |
·硬X 射线衍射检测 | 第73-78页 |
·X 射线衍射仪原理 | 第73-75页 |
·小角衍射检测结果分析 | 第75-77页 |
·大角衍射检测结果分析 | 第77-78页 |
·透射电子显微镜检测 | 第78-79页 |
·多层膜正入射反射率检测 | 第79-84页 |
·激光等离子体反射率计原理 | 第79-81页 |
·测量结果分析 | 第81-84页 |
·本章小结 | 第84-85页 |
第五章 极紫外多层膜稳定性研究 | 第85-109页 |
·低地球轨道空间环境 | 第85-87页 |
·月球表面空间环境 | 第87-88页 |
·多层膜热稳定性 | 第88-96页 |
·薄膜扩散宏观定律和微观机制 | 第88-90页 |
·薄膜反应扩散 | 第90-93页 |
·多层膜热稳定性实验与分析 | 第93-96页 |
·多层膜辐照稳定性 | 第96-106页 |
·薄膜中的晶体缺陷 | 第96-97页 |
·薄膜辐照损伤 | 第97-99页 |
·带电粒子在材料中传输的模拟 | 第99-102页 |
·辐照稳定性实验与分析 | 第102-106页 |
·极紫外多层膜时间稳定性 | 第106-107页 |
·本章小结 | 第107-109页 |
第六章总结与展望 | 第109-111页 |
·论文工作总结 | 第109-110页 |
·工作展望 | 第110-111页 |
参考文献 | 第111-119页 |
在学期间学术成果情况 | 第119-120页 |
指导教师及作者简介 | 第120-121页 |
致谢 | 第121页 |