中文摘要 | 第1-5页 |
Abstract | 第5-9页 |
第一章 引言 | 第9-27页 |
·光催化研究背景 | 第9页 |
·TiO_2 晶格结构 | 第9-10页 |
·TiO_2 的能带结构 | 第10-11页 |
·TiO_2 的光催化原理 | 第11-12页 |
·TiO_2 光催化的应用 | 第12-13页 |
·TiO_2 在净化空气中的应用 | 第12页 |
·TiO_2 的杀菌应用 | 第12-13页 |
·TiO_2 制备方法 | 第13-16页 |
·溶胶-凝胶方法 | 第13页 |
·金属钛片的阳极氧化方法 | 第13-14页 |
·金属钛片的直接热氧化方法 | 第14页 |
·其它制备方法 | 第14-16页 |
·影响TiO_2 光催化性能的主要因素 | 第16-17页 |
·晶型结构的影响 | 第16页 |
·比表面积的影响 | 第16页 |
·电子与空穴捕获剂的影响 | 第16-17页 |
·粒径的影响 | 第17页 |
·TiO_2 光催化的改性 | 第17-21页 |
·离子掺杂 | 第18页 |
·贵金属沉积 | 第18-19页 |
·半导体复合 | 第19-20页 |
·TiO_2 表面光敏化 | 第20-21页 |
·离子掺杂TiO_2 研究现状 | 第21-23页 |
·金属离子的掺杂 | 第21-22页 |
·稀土元素的掺杂 | 第22-23页 |
·非金属元素的掺杂 | 第23页 |
·本文研究意义和内容 | 第23-25页 |
参考文献 | 第25-27页 |
第二章 薄膜的制备、结构表征和光学性能的测试 | 第27-40页 |
·溶胶凝胶法制备TiO_2 薄膜 | 第27-32页 |
·溶胶凝胶法的形成和发展 | 第27页 |
·溶胶凝胶法原理 | 第27-29页 |
·溶胶-凝胶法的影响因素 | 第29-30页 |
·制膜设备及环境要求 | 第30-32页 |
·磁控溅射法制备TiO_2 薄膜 | 第32-36页 |
·磁控溅射技术简介 | 第32页 |
·磁控溅射技术的特点 | 第32-33页 |
·射频磁控溅射 | 第33-34页 |
·磁控溅射镀膜试验 | 第34-36页 |
·薄膜的结构表征 | 第36-38页 |
·膜厚的测量 | 第36-37页 |
·薄膜的结晶结构 | 第37页 |
·薄膜的表面形貌 | 第37-38页 |
·薄膜透射光谱分析 | 第38-39页 |
参考文献 | 第39-40页 |
第三章 溶胶–凝胶制备TiO_2/LA 掺杂TiO_2薄膜及其性能研究 | 第40-53页 |
·引言 | 第40-43页 |
·稀土离子掺杂 | 第41页 |
·稀土掺杂TiO_2 的作用机理 | 第41-43页 |
·实验方法 | 第43-45页 |
·TiO_2 溶胶的制备 | 第43-44页 |
·La 掺杂TiO_2 溶胶的制备 | 第44页 |
·溶胶凝胶法制备薄膜 | 第44-45页 |
·薄膜厚度对薄膜结晶的影响 | 第45页 |
·不同退火温度对薄膜结晶的影响 | 第45-47页 |
·镧的掺杂量对薄膜晶格结构影响 | 第47-48页 |
·镧掺杂对薄膜透射光谱的影响 | 第48-49页 |
·镧掺杂TiO_2 薄膜透射原子力显微镜分析 | 第49页 |
·薄膜亲水性能的分析 | 第49-50页 |
·本章结论 | 第50-51页 |
参考文献 | 第51-53页 |
第四章 反应磁控溅射制备TiO_2薄膜、C,MO 掺杂TiO_2薄膜及性质研究 | 第53-65页 |
·引言 | 第53-56页 |
·影响溅射镀膜性质的因素 | 第55-56页 |
·实验方法 | 第56-57页 |
·工作气氛参数对TiO_2 薄膜锐钛矿相形成的影响 | 第57-58页 |
·不同AR:O_2 比对TiO_2 薄膜锐钛矿相形成的影响 | 第58-59页 |
·TiO_2 薄膜的微观组织分析 | 第59-60页 |
·TiO_2 薄膜的透射谱分析 | 第60-61页 |
·光催化性能的测试 | 第61-62页 |
·C、MO 掺杂TiO_2 薄膜的XRD 分析 | 第62页 |
·C、MO 掺杂TiO_2 薄膜的透射谱分析 | 第62-63页 |
·本章结论 | 第63-64页 |
参考文献 | 第64-65页 |
第五章 总结 | 第65-66页 |
攻读硕士学位期间公开发表的论文 | 第66-67页 |
致谢 | 第67-68页 |