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TiO2薄膜的制备与掺杂特性研究

中文摘要第1-5页
Abstract第5-9页
第一章 引言第9-27页
   ·光催化研究背景第9页
   ·TiO_2 晶格结构第9-10页
   ·TiO_2 的能带结构第10-11页
   ·TiO_2 的光催化原理第11-12页
   ·TiO_2 光催化的应用第12-13页
     ·TiO_2 在净化空气中的应用第12页
     ·TiO_2 的杀菌应用第12-13页
   ·TiO_2 制备方法第13-16页
     ·溶胶-凝胶方法第13页
     ·金属钛片的阳极氧化方法第13-14页
     ·金属钛片的直接热氧化方法第14页
     ·其它制备方法第14-16页
   ·影响TiO_2 光催化性能的主要因素第16-17页
     ·晶型结构的影响第16页
     ·比表面积的影响第16页
     ·电子与空穴捕获剂的影响第16-17页
     ·粒径的影响第17页
   ·TiO_2 光催化的改性第17-21页
     ·离子掺杂第18页
     ·贵金属沉积第18-19页
     ·半导体复合第19-20页
     ·TiO_2 表面光敏化第20-21页
   ·离子掺杂TiO_2 研究现状第21-23页
     ·金属离子的掺杂第21-22页
     ·稀土元素的掺杂第22-23页
     ·非金属元素的掺杂第23页
   ·本文研究意义和内容第23-25页
 参考文献第25-27页
第二章 薄膜的制备、结构表征和光学性能的测试第27-40页
   ·溶胶凝胶法制备TiO_2 薄膜第27-32页
     ·溶胶凝胶法的形成和发展第27页
     ·溶胶凝胶法原理第27-29页
     ·溶胶-凝胶法的影响因素第29-30页
     ·制膜设备及环境要求第30-32页
   ·磁控溅射法制备TiO_2 薄膜第32-36页
     ·磁控溅射技术简介第32页
     ·磁控溅射技术的特点第32-33页
     ·射频磁控溅射第33-34页
     ·磁控溅射镀膜试验第34-36页
   ·薄膜的结构表征第36-38页
     ·膜厚的测量第36-37页
     ·薄膜的结晶结构第37页
     ·薄膜的表面形貌第37-38页
   ·薄膜透射光谱分析第38-39页
 参考文献第39-40页
第三章 溶胶–凝胶制备TiO_2/LA 掺杂TiO_2薄膜及其性能研究第40-53页
   ·引言第40-43页
     ·稀土离子掺杂第41页
     ·稀土掺杂TiO_2 的作用机理第41-43页
   ·实验方法第43-45页
     ·TiO_2 溶胶的制备第43-44页
     ·La 掺杂TiO_2 溶胶的制备第44页
     ·溶胶凝胶法制备薄膜第44-45页
   ·薄膜厚度对薄膜结晶的影响第45页
   ·不同退火温度对薄膜结晶的影响第45-47页
   ·镧的掺杂量对薄膜晶格结构影响第47-48页
   ·镧掺杂对薄膜透射光谱的影响第48-49页
   ·镧掺杂TiO_2 薄膜透射原子力显微镜分析第49页
   ·薄膜亲水性能的分析第49-50页
   ·本章结论第50-51页
 参考文献第51-53页
第四章 反应磁控溅射制备TiO_2薄膜、C,MO 掺杂TiO_2薄膜及性质研究第53-65页
   ·引言第53-56页
     ·影响溅射镀膜性质的因素第55-56页
   ·实验方法第56-57页
   ·工作气氛参数对TiO_2 薄膜锐钛矿相形成的影响第57-58页
   ·不同AR:O_2 比对TiO_2 薄膜锐钛矿相形成的影响第58-59页
   ·TiO_2 薄膜的微观组织分析第59-60页
   ·TiO_2 薄膜的透射谱分析第60-61页
   ·光催化性能的测试第61-62页
   ·C、MO 掺杂TiO_2 薄膜的XRD 分析第62页
   ·C、MO 掺杂TiO_2 薄膜的透射谱分析第62-63页
   ·本章结论第63-64页
 参考文献第64-65页
第五章 总结第65-66页
攻读硕士学位期间公开发表的论文第66-67页
致谢第67-68页

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