| 摘要 | 第1-7页 |
| ABSTRACT | 第7-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-27页 |
| ·介电薄膜的性质及应用 | 第11-12页 |
| ·介电薄膜制备技术 | 第12-18页 |
| ·物理方法 | 第12-14页 |
| ·化学方法 | 第14-15页 |
| ·物理化学相结合的方法 | 第15-18页 |
| ·微弧氧化技术的发展现状 | 第18-23页 |
| ·微弧氧化机理研究 | 第18-21页 |
| ·微弧氧化技术特点 | 第21-23页 |
| ·微弧氧化在制备介电薄膜上的应用 | 第23-24页 |
| ·BaTiO_3、SrTiO_3 及Ba_(0.5)Sr_(0.5)TiO_3 的相结构及相变 | 第24-25页 |
| ·课题意义及研究内容 | 第25-27页 |
| ·本文的研究内容 | 第25-26页 |
| ·本文的预期结果 | 第26-27页 |
| 第二章 实验设备与方法 | 第27-33页 |
| ·实验材料及仪器 | 第27-28页 |
| ·实验材料 | 第27页 |
| ·实验所用的设备 | 第27-28页 |
| ·实验技术路线 | 第28页 |
| ·实验方案 | 第28-30页 |
| ·前处理工艺 | 第28-29页 |
| ·介电薄膜的制备 | 第29-30页 |
| ·薄膜分析 | 第30-33页 |
| ·相分析及成分分析 | 第30-31页 |
| ·形貌分析 | 第31页 |
| ·薄膜厚度测量 | 第31页 |
| ·表面粗糙度测定 | 第31-32页 |
| ·介电性能测量 | 第32-33页 |
| 第三章 介电薄膜的制备和电解液体系的选择 | 第33-39页 |
| ·下图为实验溶液的选择 | 第33-34页 |
| ·实验结果及分析 | 第34-36页 |
| ·BaTiO_3 薄膜组织的分析 | 第36-38页 |
| ·本章小结 | 第38-39页 |
| 第四章 实验参数对BaTiO_3介电薄膜的影响 | 第39-54页 |
| ·温度对薄膜表面形貌的影响 | 第39页 |
| ·电解液浓度及工艺参数对BaTiO_3 介电薄膜的影响 | 第39-51页 |
| ·电解液浓度对BaTiO_3 介电薄膜表面形貌和膜厚的影响 | 第39-43页 |
| ·频率对BaTiO_3 介电薄膜表面形貌及膜厚的影响 | 第43-46页 |
| ·电流密度对BaTiO_3 介电薄膜表面形貌及膜厚的影响 | 第46-48页 |
| ·时间对BaTiO_3 介电薄膜表面形貌及膜厚的影响 | 第48-51页 |
| ·薄膜的生长动力学分析 | 第51-52页 |
| ·本章小结 | 第52-54页 |
| 第五章 SrTiO_3介电薄膜研究 | 第54-70页 |
| ·SrTiO_3 薄膜形貌分析 | 第54-57页 |
| ·SrTiO_3 薄膜相分析 | 第54页 |
| ·SrTiO_3 薄膜截面分析 | 第54-55页 |
| ·SrTiO_3 薄膜截面元素线扫描 | 第55-56页 |
| ·SrTiO_3 薄膜截面元素面扫描 | 第56-57页 |
| ·电解液浓度和工艺参数对SrTiO_3 介电薄膜表面形貌及膜厚的影响 | 第57-68页 |
| ·电解液浓度对SrTiO_3 介电薄膜表面形貌及膜厚的影响 | 第57-60页 |
| ·频率对SrTiO_3 介电薄膜表面形貌及膜厚的影响 | 第60-63页 |
| ·电流密度对SrTiO_3 介电薄膜表面形貌及膜厚的影响 | 第63-65页 |
| ·时间对SrTiO_3 介电薄膜表面形貌及膜厚的影响 | 第65-68页 |
| ·Ba_(0.5)Sr_(0.5)TiO_3 薄膜XRD分析 | 第68-69页 |
| ·本章小结 | 第69-70页 |
| 第六章 SrTiO_3薄膜介电性能 | 第70-73页 |
| ·引言 | 第70页 |
| ·实验结果分析 | 第70-72页 |
| ·本章小结 | 第72-73页 |
| 第七章 全文结论与展望 | 第73-75页 |
| ·全文结论 | 第73-74页 |
| ·论文创新之处 | 第74页 |
| ·对进一步工作的展望 | 第74-75页 |
| 参考文献 | 第75-80页 |
| 攻读硕士学位期间取得的研究成果 | 第80-81页 |
| 致谢 | 第81页 |
