| 摘要 | 第1-7页 |
| ABSTRACT | 第7-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-31页 |
| ·关于超疏水表面研究的理论发展 | 第11-18页 |
| ·静态表征- 接触角 | 第11-12页 |
| ·动态表征- 滚动角、前进角、后退角和接触角滞后 | 第12-16页 |
| ·表面粗糙度与表面自由能 | 第16-18页 |
| ·超疏水表面的制备方法 | 第18-28页 |
| ·模板法 | 第19-21页 |
| ·相分离技术 | 第21-22页 |
| ·电化学沉积 | 第22-23页 |
| ·电纺丝 | 第23-25页 |
| ·可升华物质微粒成孔法 | 第25页 |
| ·溶胶- 凝胶法 | 第25-26页 |
| ·气相沉积法 | 第26-27页 |
| ·其他方法 | 第27-28页 |
| ·超疏水表面的应用 | 第28-29页 |
| ·本论文研究的目的意义、研究的主要内容与创新之处 | 第29-31页 |
| ·本论文研究的目的意义 | 第29页 |
| ·本论文研究的主要内容 | 第29-30页 |
| ·本论文的创新之处 | 第30-31页 |
| 第二章 单分散纳米二氧化硅的制备及结构表征 | 第31-41页 |
| ·引言 | 第31-32页 |
| ·实验部分 | 第32-33页 |
| ·实验所用原材料 | 第32页 |
| ·不同粒径单分散纳米SiO_2的制备 | 第32页 |
| ·分析与测试 | 第32-33页 |
| ·结果与讨论 | 第33-39页 |
| ·反应条件对形成纳米二氧化硅粒径的影响 | 第33-37页 |
| ·二氧化硅纳米粒子的形貌 | 第37-38页 |
| ·二氧化硅的傅里叶红外光谱（FTIR ）分析 | 第38-39页 |
| ·纳米二氧化硅的X 射线衍射（XRD ）分析 | 第39页 |
| ·本章小结 | 第39-41页 |
| 第三章 有机改性纳米SiO_2 超疏水膜的制备、性能及表面微观结构的研究 | 第41-81页 |
| ·引言 | 第41页 |
| ·实验原材料及实验仪器 | 第41-46页 |
| ·实验所用原材料 | 第41-42页 |
| ·不同粒径单分散SiO_2 的制备 | 第42页 |
| ·纳米SiO_2粒子的表面改性 | 第42-43页 |
| ·涂膜的制备 | 第43-44页 |
| ·分析与测试 | 第44-46页 |
| ·结果与讨论 | 第46-79页 |
| ·有机改性SiO_2涂膜的表面性能 | 第46-53页 |
| ·有机改性纳米二氧化硅超疏水涂膜的浸润性 | 第53-58页 |
| ·反应条件对涂膜疏水性能的影响 | 第58-67页 |
| ·超疏水机理研究 | 第67-74页 |
| ·超疏水涂膜的耐化学溶剂性能和耐环境老化性能 | 第74-79页 |
| ·本章小结 | 第79-81页 |
| 结论 | 第81-82页 |
| 参考文献 | 第82-90页 |
| 在学期间发表与学位论文内容相关的学术论文 | 第90-91页 |
| 致谢 | 第91页 |