新型BaTi2O5薄膜的脉冲激光沉积与结构调控
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-20页 |
| ·铁电存储器的特点 | 第9-10页 |
| ·主要的铁电存储器铁电薄膜 | 第10-13页 |
| ·PZT铁电薄膜 | 第10-12页 |
| ·BST铁电薄膜 | 第12-13页 |
| ·BaTi_2O_5的研究进展 | 第13-18页 |
| ·BaTi_2O_5的晶体结构与基本物理性质 | 第13-15页 |
| ·BaTi2_O_5的研究现状 | 第15-18页 |
| ·本文工作提出的主要研究内容 | 第18-20页 |
| 第二章 BaTi_2O_5的合成与烧结致密化 | 第20-39页 |
| ·引言 | 第20页 |
| ·实验与测试 | 第20-26页 |
| ·实验原料 | 第20-21页 |
| ·实验过程 | 第21-23页 |
| ·实验设备 | 第23页 |
| ·测试方法 | 第23-26页 |
| ·结果与讨论 | 第26-38页 |
| ·BaTi_2O_5粉体的合成 | 第26-28页 |
| ·BaTi_2O_5陶瓷的烧结 | 第28-35页 |
| ·BaTi_2O_5陶瓷的退火处理及其介电性能 | 第35-38页 |
| ·小结 | 第38-39页 |
| 第三章 BaTi_2O_5薄膜的脉冲激光沉积 | 第39-72页 |
| ·引言 | 第39页 |
| ·实验与测试 | 第39-47页 |
| ·实验过程 | 第39-41页 |
| ·实验设计与工艺过程 | 第41-42页 |
| ·实验设备 | 第42-46页 |
| ·测试方法 | 第46-47页 |
| ·结果与讨论 | 第47-71页 |
| ·MgO缓冲层的脉冲激光沉积 | 第48-60页 |
| ·Si衬底上BaTi_2O_5薄膜的脉冲激光沉积 | 第60-71页 |
| ·小结 | 第71-72页 |
| 第四章 结论 | 第72-73页 |
| 参考文献 | 第73-77页 |
| 攻读硕士学位期间发表的学术论文情况 | 第77-78页 |
| 致谢 | 第78页 |
