面向Ⅲ-Ⅴ/Si混合集成波导的设计与工艺探索
| 致谢 | 第4-6页 |
| 摘要 | 第6-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 1. 绪论 | 第11-29页 |
| 1.1 引言 | 第11-12页 |
| 1.2 半导体激光器发展历史回顾 | 第12-13页 |
| 1.3 半导体激光器主要结构类型 | 第13-17页 |
| 1.4 可调谐半导体激光器 | 第17-22页 |
| 1.5 Ⅲ-Ⅴ/Si混合集成 | 第22-27页 |
| 1.6 论文主要内容与创新点 | 第27-29页 |
| 2. 混合集成激光嚣的基本原理 | 第29-53页 |
| 2.1 平板波导模式分析 | 第29-31页 |
| 2.2 布拉格光栅波导原理 | 第31-41页 |
| 2.3 半导体激光器物理基础 | 第41-43页 |
| 2.4 半导体激光器工作原理 | 第43-47页 |
| 2.5 超晶格多量子阱激光器 | 第47-51页 |
| 2.6 本章小结 | 第51-53页 |
| 3. 激光器阵列的波导设计 | 第53-64页 |
| 3.1 设计思路 | 第53页 |
| 3.2 无源光栅的设计 | 第53-59页 |
| 3.3 有源波导的设计 | 第59-62页 |
| 3.4 无源波导与有源波导的耦合结构设计 | 第62-63页 |
| 3.5 激光器腔长设计 | 第63页 |
| 3.6 本章小结 | 第63-64页 |
| 4. 激光器阵列工艺设计 | 第64-78页 |
| 4.1 工艺设备 | 第64-67页 |
| 4.2 无源硅波导与光栅制作工艺 | 第67-68页 |
| 4.3 键合工艺 | 第68-70页 |
| 4.4 有源Ⅲ-Ⅴ波导制作工艺 | 第70-76页 |
| 4.5 Ⅲ-Ⅴ波导工艺改进方法 | 第76-77页 |
| 4.6 本章小结 | 第77-78页 |
| 5. 激光器阵列的制作与测试 | 第78-88页 |
| 5.1 掩膜版 | 第78-79页 |
| 5.2 无源硅波导制作与测试 | 第79-82页 |
| 5.3 Ⅲ-Ⅴ解离片与SOI的键合 | 第82-83页 |
| 5.4 Ⅲ-Ⅴ波导的制作 | 第83-85页 |
| 5.5 激光器阵列的测试 | 第85-87页 |
| 5.6 本章小结 | 第87-88页 |
| 6. 总结与展望 | 第88-89页 |
| 参考文献 | 第89-97页 |
| 作者简历 | 第97页 |
| 发表论文 | 第97页 |
