| 摘要 | 第4-6页 |
| abstract | 第6-7页 |
| 第1章 引言 | 第10-14页 |
| 1.1 研究背景及意义 | 第10-11页 |
| 1.2 国内外研究现状 | 第11-12页 |
| 1.3 课题主要内容 | 第12-14页 |
| 第2章 光学薄膜的制备技术与性能检测方法 | 第14-31页 |
| 2.1 光学薄膜制备技术 | 第14-18页 |
| 2.2 薄膜性能检测方法 | 第18-22页 |
| 2.3 基底和薄膜光学常数的拟合 | 第22-30页 |
| 2.3.1 基底材料的折射率拟合 | 第22-26页 |
| 2.3.2 薄膜材料的折射率拟合 | 第26-30页 |
| 2.4 本章小结 | 第30-31页 |
| 第3章 应用于空间环境的超宽光谱薄膜材料的特性研究 | 第31-55页 |
| 3.1 光学薄膜材料的选择 | 第31页 |
| 3.2 ZnS材料的光学及物理特性 | 第31-41页 |
| 3.2.1 薄膜厚度对ZnS薄膜特性的影响 | 第32页 |
| 3.2.2 沉积温度对ZnS薄膜特性的影响 | 第32-35页 |
| 3.2.3 离子束辅助沉积对ZnS薄膜特性的影响 | 第35-41页 |
| 3.3 YbF_3材料的光学及物理特性 | 第41-53页 |
| 3.3.1 两种加热蒸发方式对比 | 第41-44页 |
| 3.3.2 沉积温度对YbF_3薄膜的影响 | 第44-46页 |
| 3.3.3 沉积厚度对YbF_3薄膜的影响 | 第46-48页 |
| 3.3.4 离子束辅助对YbF_3薄膜的影响 | 第48-53页 |
| 3.4 薄膜材料折射率拟合 | 第53-54页 |
| 3.5 本章小结 | 第54-55页 |
| 第4章 超宽光谱太阳防护薄膜的设计与制备 | 第55-74页 |
| 4.1 薄膜设计基础理论 | 第55-63页 |
| 4.1.1 光学薄膜基础理论 | 第55-57页 |
| 4.1.2 对称膜系的等效层 | 第57-58页 |
| 4.1.3 增透膜设计 | 第58-60页 |
| 4.1.4 高反射膜设计 | 第60-62页 |
| 4.1.5 干涉截止滤光片设计 | 第62-63页 |
| 4.2 超宽光谱太阳防护薄膜的设计 | 第63-66页 |
| 4.3 宽光谱增透膜的设计 | 第66-67页 |
| 4.4 超宽光谱太阳防护薄膜的制备 | 第67-69页 |
| 4.4.1 薄膜沉积工艺 | 第67-68页 |
| 4.4.2 膜厚监控系统 | 第68-69页 |
| 4.5 薄膜性能检测 | 第69-73页 |
| 4.6 本章小结 | 第73-74页 |
| 第5章 总结 | 第74-77页 |
| 5.1 论文总结 | 第74-75页 |
| 5.2 主要创新点 | 第75页 |
| 5.3 后续工作设想 | 第75-77页 |
| 参考文献 | 第77-80页 |
| 致谢 | 第80-81页 |
| 作者简历及攻读学位期间发表的学术论文与研究成果 | 第81页 |