| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 第一章 绪论 | 第11-24页 |
| 1.1 引言 | 第11-12页 |
| 1.2 磁电耦合概述 | 第12-14页 |
| 1.3 磁电复合多层膜研究进展 | 第14-19页 |
| 1.4 本文选题依据与主要内容 | 第19-24页 |
| 1.4.1 本文的选题依据 | 第19-23页 |
| 1.4.2 本文研究的主要内容 | 第23-24页 |
| 第二章 复合薄膜的制备工艺及其性能 | 第24-39页 |
| 2.1 复合薄膜制备与表征技术 | 第24-32页 |
| 2.1.1 PLD原理 | 第24-26页 |
| 2.1.2 结构与性能表征 | 第26-32页 |
| 2.2 LSMO磁性电极的制备与表征 | 第32-34页 |
| 2.2.1 LSMO磁性电极的制备工艺 | 第32页 |
| 2.2.2 LSMO薄膜的微结构与表面形貌 | 第32-33页 |
| 2.2.3 LSMO薄膜的磁学性能 | 第33-34页 |
| 2.3 PZT铁电薄膜的制备与表征 | 第34-38页 |
| 2.3.1 PZT铁电薄膜的制备工艺 | 第34页 |
| 2.3.2 PZT铁电薄膜的微结构与表面形貌 | 第34-35页 |
| 2.3.3 PZT铁电薄膜的铁电性 | 第35-38页 |
| 2.4 本章小结 | 第38-39页 |
| 第三章 不同取向PZT/LSMO复合薄膜的磁电性能研究 | 第39-49页 |
| 3.1 PZT/LSMO复合薄膜的微结构 | 第39-43页 |
| 3.1.1 PZT/LSMO复合薄膜的XRD结果分析 | 第39-40页 |
| 3.1.2 PZT/LSMO复合薄膜的AFM表面形貌 | 第40-43页 |
| 3.2 PZT/LSMO复合薄膜电学与磁学性能 | 第43-47页 |
| 3.2.1 PZT/LSMO复合薄膜电滞回线 | 第43-45页 |
| 3.2.2 PZT/LSMO复合薄膜磁滞回线 | 第45-47页 |
| 3.3 PZT/LSMO复合薄膜磁电耦合性能 | 第47-48页 |
| 3.4 本章小结 | 第48-49页 |
| 第四章 不同取向PZT/NFO/LSMO复合薄膜的磁电性能研究 | 第49-59页 |
| 4.1 PZT/NFO/LSMO复合薄膜的微结构 | 第49-54页 |
| 4.1.1 PZT/NFO/LSMO复合薄膜的XRD结果分析 | 第49-50页 |
| 4.1.2 PZT/NFO/LSMO复合薄膜的AFM表面形貌 | 第50-54页 |
| 4.2 PZT/NFO/LSMO复合薄膜电学与磁学性能 | 第54-57页 |
| 4.2.1 PZT/NFO/LSMO复合薄膜电滞回线 | 第54-55页 |
| 4.2.2 PZT/NFO/LSMO复合薄膜磁滞回线 | 第55-57页 |
| 4.3 PZT/NFO/LSMO复合薄膜磁电耦合性能 | 第57-58页 |
| 4.4 本章小结 | 第58-59页 |
| 全文总结与展望 | 第59-61页 |
| 参考文献 | 第61-66页 |
| 致谢 | 第66页 |
