| 摘要 | 第6-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 缩略语表 | 第9-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-25页 |
| 1 能源危机与解决方案 | 第10-12页 |
| 1.1 能源危机 | 第10页 |
| 1.2 解决方案 | 第10-12页 |
| 2 氢能与光电化学池分解水 | 第12-16页 |
| 2.1 氢能 | 第12-14页 |
| 2.1.1 氢能的概述 | 第12-13页 |
| 2.1.2 氢气的制备 | 第13-14页 |
| 2.2 光电化学池分解水基本原理 | 第14-16页 |
| 3 二维纳米材料 | 第16-17页 |
| 4 氧化铟材料的概述 | 第17-24页 |
| 4.1 氧化铟的结构与性质 | 第17-18页 |
| 4.2 氧化铟的制备及其在光电化学池水分解中的应用 | 第18-21页 |
| 4.2.1 气相法 | 第19-20页 |
| 4.2.2 液相法 | 第20-21页 |
| 4.3 氧化铟光阳极的优化 | 第21-24页 |
| 5 立题依据和研究内容 | 第24-25页 |
| 第二章 超薄In_2O_3纳米片的制备及其光电化学性能研究 | 第25-47页 |
| 1 引言 | 第25-27页 |
| 2 实验部分 | 第27-30页 |
| 2.1 仪器与试剂 | 第27-28页 |
| 2.2 实验方法 | 第28-29页 |
| 2.2.1 超薄氧化铟纳米片的制备 | 第28页 |
| 2.2.2 氧化铟光阳极的制备 | 第28-29页 |
| 2.3 材料的表征 | 第29-30页 |
| 2.4 电化学分析 | 第30页 |
| 3 结果与讨论 | 第30-46页 |
| 3.1 氢氧化钠浓度的影响(煅烧前) | 第30-32页 |
| 3.1.1 TEM表征 | 第30-32页 |
| 3.1.2 XRD表征 | 第32页 |
| 3.2 氢氧化钠浓度的影响(煅烧后) | 第32-36页 |
| 3.2.1 TEM表征 | 第33-34页 |
| 3.2.2 XRD表征 | 第34-35页 |
| 3.2.3 光电化学性能测试 | 第35-36页 |
| 3.2.3.1 光电流测试 | 第35-36页 |
| 3.2.3.2 阻抗测试 | 第36页 |
| 3.3 热重分析 | 第36-37页 |
| 3.4 煅烧温度的影响 | 第37-46页 |
| 3.4.1 TEM表征 | 第37-38页 |
| 3.4.2 XRD表征 | 第38-39页 |
| 3.4.3 XPS表征 | 第39-40页 |
| 3.4.4 BET表征 | 第40-41页 |
| 3.4.5 FT-IR表征 | 第41页 |
| 3.4.6 Raman表征 | 第41-42页 |
| 3.4.7 DRS表征 | 第42-43页 |
| 3.4.8 PL表征 | 第43-44页 |
| 3.4.9 光电化学性能测试 | 第44-46页 |
| 3.4.9.1 光电流测试 | 第44-45页 |
| 3.4.9.2 样品稳定性测试 | 第45-46页 |
| 4 本章小结 | 第46-47页 |
| 第三章 超薄In_2O_3纳米片的改性及其光电化学性能研究 | 第47-62页 |
| 1 引言 | 第47-48页 |
| 2 实验部分 | 第48-52页 |
| 2.1 仪器与试剂 | 第48-49页 |
| 2.2 实验方法 | 第49-50页 |
| 2.2.1 氧化铟前驱物的制备 | 第49页 |
| 2.2.2 氧化铟/石墨烯复合材料的制备 | 第49-50页 |
| 2.2.3 氧化铟/石墨烯复合材料光阳极的制备 | 第50页 |
| 2.3 材料的表征 | 第50-51页 |
| 2.4 电化学分析 | 第51-52页 |
| 3 结果与讨论 | 第52-61页 |
| 3.1 TEM表征 | 第52-53页 |
| 3.2 XRD表征 | 第53页 |
| 3.3 XPS表征 | 第53-54页 |
| 3.4 BET表征 | 第54-55页 |
| 3.5 FT-IR表征 | 第55-56页 |
| 3.6 Raman表征 | 第56-57页 |
| 3.7 DRS表征 | 第57-58页 |
| 3.8 PL表征 | 第58-59页 |
| 3.9 光电化学性能测试 | 第59-61页 |
| 3.9.1 光电流测试 | 第59-60页 |
| 3.9.2 样品稳定性测试 | 第60页 |
| 3.9.3 阻抗测试 | 第60-61页 |
| 4 本章小结 | 第61-62页 |
| 总结与展望 | 第62-64页 |
| 1 总结 | 第62页 |
| 2 展望 | 第62-64页 |
| 参考文献 | 第64-76页 |
| 致谢 | 第76页 |
