| 摘要 | 第4-6页 |
| ABSTRACT | 第6-8页 |
| 第一章 绪论 | 第12-32页 |
| 1.1 引言 | 第12-13页 |
| 1.2 固体栅介质场效应晶体管 | 第13-16页 |
| 1.2.1 金属-氧化物-半导体场效应晶体管 | 第13-14页 |
| 1.2.3 摩擦电子学场效应管 | 第14-16页 |
| 1.3 压电电子学场效应管 | 第16-17页 |
| 1.4 离子液体栅介质场效应管 | 第17-21页 |
| 1.4.1 离子液体栅介质场效应管对半导体电学性质的调控 | 第17-19页 |
| 1.4.2 离子液体栅介质效应管在材料相变中的应用 | 第19-21页 |
| 1.5 气体离子在材料表界面及材料加工改性中的应用 | 第21-26页 |
| 1.5.1 气体离子在材料表界面的应用 | 第21-24页 |
| 1.5.2 气体离子在材料加工改性中的应用 | 第24-26页 |
| 1.6 摩擦纳米发电机 | 第26-30页 |
| 1.6.1 摩擦纳米发电机电离气体及其在质谱仪上的应用 | 第26-28页 |
| 1.6.2 摩擦纳米发电机高电压输出电离空气 | 第28-30页 |
| 1.7 目前存在的主要问题 | 第30页 |
| 1.8 本论文的选题意义和目的 | 第30-31页 |
| 1.9 本论文的主要研究内容 | 第31-32页 |
| 第二章 气体离子栅场效应管的基本概念及场效应特性 | 第32-54页 |
| 2.1 引言 | 第32-33页 |
| 2.2 气体离子栅场效应管基本概念 | 第33-38页 |
| 2.2.1 气体离子栅介质场效应管的结构 | 第33-34页 |
| 2.2.2 气体离子栅调控半导体电学输运 | 第34-38页 |
| 2.3 ZnO纳米线薄膜制备及其本征电学特性 | 第38-42页 |
| 2.3.1 ZnO纳米线薄膜的制备及表征 | 第38-40页 |
| 2.3.2 ZnO纳米线薄膜的本征电学特性 | 第40-41页 |
| 2.3.3 ZnO纳米线薄膜的本征场效应管特性 | 第41-42页 |
| 2.4 气体离子栅场效应管的特征曲线 | 第42-44页 |
| 2.4.1 气体离子栅场效应管的输出曲线 | 第42-43页 |
| 2.4.2 气体离子栅场效应管的转移曲线 | 第43-44页 |
| 2.5 气体离子栅场效应管的微观机制 | 第44-49页 |
| 2.5.1 O_2~-的离子数量对气体离子栅调控特性的影响 | 第44-45页 |
| 2.5.2 纳米线表面活性位点对气体离子栅调控特性的影响 | 第45-46页 |
| 2.5.3 ZnO纳米线表面吸附的O_2~-在真空中的脱附特性 | 第46-47页 |
| 2.5.4 O_2~-离子吸附在纳米线表面的微观机制 | 第47-49页 |
| 2.6 三种栅极场效应管调控机制对比 | 第49-51页 |
| 2.6.1 金属-氧化物-半导体场效应晶体管的调控机制 | 第49-50页 |
| 2.6.2 离子液体栅介质场效应管的调控机制 | 第50-51页 |
| 2.6.3 气体离子栅场效应管的调控机制 | 第51页 |
| 2.7 小结 | 第51-54页 |
| 第三章 气体离子栅在ZnO纳米线薄膜快速紫外光检测中的应用 | 第54-68页 |
| 3.1 引言 | 第54-57页 |
| 3.2 ZnO纳米线薄膜紫外光检测器的本征性能 | 第57-58页 |
| 3.3 气体离子栅场效应管在紫外光检测器中应用 | 第58-62页 |
| 3.3.1 气体离子栅场效应紫外光检测器的工作过程 | 第58-59页 |
| 3.3.2 紫外光对O_2~-气体离子栅的“擦除” | 第59-60页 |
| 3.3.3 气体离子栅调控下的紫外光检测性能 | 第60-62页 |
| 3.4 两种紫外光检测器的检测机制的对比 | 第62-63页 |
| 3.5 恒定紫外光照射下气体离子栅场效应管的开关特性 | 第63-66页 |
| 3.5.1 恒定紫外光照射下气体离子栅场效应管开关的工作过程 | 第63-64页 |
| 3.5.2 恒定紫外光照射下气体离子栅场效应管开关的性能 | 第64页 |
| 3.5.3 恒定紫外光照射下气体离子栅场效应管开关的作用机制 | 第64-66页 |
| 3.6 小结 | 第66-68页 |
| 第四章 总结与展望 | 第68-70页 |
| 4.1 总结 | 第68页 |
| 4.2 展望 | 第68-70页 |
| 参考文献 | 第70-76页 |
| 硕士期间完成的工作 | 第76-78页 |
| 致谢 | 第78-79页 |
