| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 第1章 绪论 | 第12-22页 |
| 1.1 课题背景、目的与意义 | 第12-13页 |
| 1.2 光耦合器国内外发展与现状分析 | 第13-14页 |
| 1.3 波导型光耦合片研究热点 | 第14-16页 |
| 1.3.1 硅基二氧化硅光波导 | 第14-15页 |
| 1.3.2 钛/铌酸锂光波导 | 第15页 |
| 1.3.3 InGaAs/InP光波导 | 第15页 |
| 1.3.4 聚合物光波导 | 第15-16页 |
| 1.4 钛/铌酸锂波导型光耦合片制备方法 | 第16-19页 |
| 1.4.1 钛/铌酸锂复合薄膜制备方法 | 第16-18页 |
| 1.4.2 铌酸锂波导结构的制备方法 | 第18-19页 |
| 1.5 晶体LiNbO_3中钛扩散机理 | 第19-20页 |
| 1.5.1 固体中物质的扩散理论—菲克定律 | 第19页 |
| 1.5.2 钛离子在LiNbO_3中的扩散机制 | 第19-20页 |
| 1.6 课题来源 | 第20页 |
| 1.7 本课题主要研究内容 | 第20-22页 |
| 第2章 实验方案与研究方法 | 第22-35页 |
| 2.1 实验材料与设备 | 第22-23页 |
| 2.1.1 实验原料 | 第22页 |
| 2.1.2 实验设备 | 第22-23页 |
| 2.2 钛/铌酸锂复合薄膜实验方案设计 | 第23-26页 |
| 2.2.1 实验方案 | 第23-26页 |
| 2.2.2 工艺流程 | 第26页 |
| 2.3 钛/铌酸锂波导型光耦合片实验方案设计 | 第26-29页 |
| 2.3.1 实验方案 | 第26-28页 |
| 2.3.2 工艺流程 | 第28-29页 |
| 2.4 微观结构表征手段 | 第29-30页 |
| 2.4.1 X-射线衍射分析 | 第29页 |
| 2.4.2 掠入射角X-射线衍射分析 | 第29-30页 |
| 2.4.3 扫描电子显微镜分析 | 第30页 |
| 2.4.4 拉曼光谱分析 | 第30页 |
| 2.4.5 X-射线光电子能谱 | 第30页 |
| 2.5 宏观光学性能表征手段 | 第30-34页 |
| 2.5.1 有效折射率与导模数目测试分析 | 第30-32页 |
| 2.5.2 折射率梯度分布测试分析 | 第32-33页 |
| 2.5.3 表面最大折射率和表面折射率变化量测试分析 | 第33页 |
| 2.5.4 波导损耗测试分析 | 第33-34页 |
| 2.6 本章小结 | 第34-35页 |
| 第3章 真空蒸镀工艺对Ti/LiNbO_3复合薄膜影响 | 第35-50页 |
| 3.1 蒸镀电流对复合薄膜的影响 | 第35-39页 |
| 3.1.1 蒸镀电流对复合薄膜表面形貌影响 | 第35-37页 |
| 3.1.2 Ti/LiNbO_3复合薄膜组织结构 | 第37-39页 |
| 3.2 基片温度对复合薄膜影响 | 第39-44页 |
| 3.2.1 基片温度对复合薄膜表面形貌影响 | 第39-43页 |
| 3.2.2 基片温度对复合薄膜组织结构影响 | 第43-44页 |
| 3.3 蒸镀时间对复合薄膜影响 | 第44-46页 |
| 3.3.1 蒸镀时间对薄膜表面形貌影响 | 第44-45页 |
| 3.3.2 蒸镀时间对薄膜厚度影响 | 第45-46页 |
| 3.4 钛/铌酸锂复合薄膜截面扫描分析 | 第46-47页 |
| 3.5 钛/铌酸锂复合薄膜表面XPS分析 | 第47-49页 |
| 3.6 本章小结 | 第49-50页 |
| 第4章 钛扩散工艺对光耦合片微观结构及光学性能影响 | 第50-74页 |
| 4.1 扩散工艺对光耦合片形貌影响 | 第50-54页 |
| 4.1.1 扩散前后光耦合样片外观形貌比较 | 第50页 |
| 4.1.2 扩散温度对光耦合片形貌影响分析 | 第50-52页 |
| 4.1.3 扩散时间对光耦合片形貌影响分析 | 第52-53页 |
| 4.1.4 钛薄膜初始厚度对光耦合片形貌影响分析 | 第53-54页 |
| 4.2 不同扩散工艺下光耦合片截面及表面元素分析 | 第54-60页 |
| 4.2.1 扩散后得到的光耦合片表面元素分析 | 第54-56页 |
| 4.2.2 不同扩散温度下光耦合片截面及元素分析 | 第56-58页 |
| 4.2.3 不同扩散时间下光耦合片截面及元素分析 | 第58-60页 |
| 4.3 扩散前后光耦合片相结构分析 | 第60-62页 |
| 4.3.1 拉曼光谱实验结果分析 | 第60-61页 |
| 4.3.2 XRD衍射实验结果分析 | 第61-62页 |
| 4.4 钛扩散后光耦合片表面XPS分析 | 第62-72页 |
| 4.4.1 有效折射率与导模数目分析 | 第64-65页 |
| 4.4.2 折射率梯度分布 | 第65-69页 |
| 4.4.3 表面最大折射率与表面折射率变化量分析 | 第69-70页 |
| 4.4.4 波导传输损耗测试与分析 | 第70-72页 |
| 4.5 本章小结 | 第72-74页 |
| 结论 | 第74-75页 |
| 参考文献 | 第75-80页 |
| 攻读硕士学位期间发表的学术论文 | 第80-81页 |
| 致谢 | 第81页 |
