摘要 | 第5-6页 |
ABSTRACT | 第6-7页 |
第一章 绪论 | 第10-20页 |
1.1 引言 | 第10页 |
1.2 微波铁氧体材料 | 第10-13页 |
1.2.1 铁氧体材料的介绍 | 第10-11页 |
1.2.2 YIG的特征与性能 | 第11-12页 |
1.2.3 YIG的的发展与现状 | 第12-13页 |
1.3 YIG块材的制备工艺 | 第13-14页 |
1.3.1 传统的制备工艺 | 第13页 |
1.3.2 两步烧结制备工艺 | 第13-14页 |
1.3.3 实验用药品与仪器介绍 | 第14页 |
1.4 YIG薄膜制备工艺与脉冲激光沉积技术(PLD)的发展与原理 | 第14-19页 |
1.4.1 YIG薄膜的制备工艺 | 第14-15页 |
1.4.2 脉冲激光沉积技术(PLD)的发展与原理 | 第15-17页 |
1.4.3 薄膜实验与检测仪器介绍 | 第17-19页 |
1.5 本论文主要工作及内容安排 | 第19-20页 |
第二章 溶胶凝胶法结合两步烧结制备YIG块材 | 第20-29页 |
2.1 引言 | 第20页 |
2.2 溶胶凝胶结合两步烧结法制备YIG块材的工艺流程 | 第20-21页 |
2.2.1 纳米级YIG粉体的制备 | 第20-21页 |
2.2.2 YIG块材的制备 | 第21页 |
2.3 测试结果与分析 | 第21-27页 |
2.3.1 溶胶凝胶制YIG纳米粉体测试结果 | 第21-22页 |
2.3.2 传统烧结结果及分析 | 第22-24页 |
2.3.3 两步烧结结果及分析 | 第24-26页 |
2.3.4 两步烧结样品的磁性能与铁磁共振线宽分析 | 第26-27页 |
2.4 本章小结 | 第27-29页 |
第三章 PLD法靶材晶粒尺寸对对薄膜影响的影响 | 第29-41页 |
3.1 引言 | 第29页 |
3.2 PLD法制备YIG薄膜的流程 | 第29-33页 |
3.2.1 靶材与基片的选择 | 第29-30页 |
3.2.2 基片清洗 | 第30-31页 |
3.2.3 安装靶材与基片 | 第31页 |
3.2.4 系统抽真空与基片加热 | 第31页 |
3.2.5 制备薄膜 | 第31-32页 |
3.2.6 薄膜的退火 | 第32-33页 |
3.3 实验的结果与分析 | 第33-39页 |
3.3.1 不同晶粒尺寸的靶材对YIG薄膜表面形貌影响 | 第33-36页 |
3.3.2 不同晶粒尺寸的靶材对YIG薄膜性能影响 | 第36-39页 |
3.4 本章小结 | 第39-41页 |
第四章 Fe2O3及Y2O3的掺杂对YIG薄膜影响的探究 | 第41-51页 |
4.1 引言 | 第41页 |
4.2 靶材激光溅射后表面的检测 | 第41-44页 |
4.2.1 靶材激光溅射后表面形貌的变化 | 第41-42页 |
4.2.2 靶材激光溅射后表面成分变化 | 第42-44页 |
4.2.3 小结 | 第44页 |
4.3 YIG靶材掺杂Fe2O3或Y2O3双靶材连续沉积 | 第44-50页 |
4.3.1 实验流程 | 第45页 |
4.3.2 测试结果与分析 | 第45-50页 |
4.4 本章小结 | 第50-51页 |
第五章 总结与展望 | 第51-53页 |
致谢 | 第53-54页 |
参考文献 | 第54-60页 |
附录 | 第60页 |