摘要 | 第5-6页 |
ABSTRACT | 第6-7页 |
第一章 绪论 | 第10-25页 |
1.1 引言 | 第10-11页 |
1.2 半导体材料光催化剂降解机制 | 第11-16页 |
1.2.1 光催化的基本原理 | 第11-15页 |
1.2.2 光催化活性的影响因素 | 第15-16页 |
1.3 铋系氧化物半导体光催化材料的光催化研究进展 | 第16-20页 |
1.3.1 氧化铋(Bi_2O_3) | 第17-18页 |
1.3.2 铋系金属复合氧化物光催化剂 | 第18-19页 |
1.3.3 铋系非金属复合氧化物光催化剂 | 第19-20页 |
1.4 BiNbO_4半导体材料简介与光催化研究进展 | 第20-24页 |
1.4.1 BiNbO_4半导体材料简介 | 第20-22页 |
1.4.2 BiNbO_4的光催化现状 | 第22-24页 |
1.5 本课题研究的主要内容及意义 | 第24-25页 |
第二章 研究方案与实验表征 | 第25-34页 |
2.1 掺杂离子的选择 | 第25-26页 |
2.2 样品制备 | 第26-28页 |
2.3 样品分析表征方法 | 第28-31页 |
2.3.1 X射线衍射(XRD) | 第28页 |
2.3.2 拉曼(Raman)散射光谱 | 第28-29页 |
2.3.3 X射线光电子能谱(XPS) | 第29页 |
2.3.4 比表面分析(BET) | 第29-30页 |
2.3.5 场发射扫描电子显微镜(FESEM) | 第30页 |
2.3.6 紫外-可见光漫反射光谱(UV-Vis) | 第30-31页 |
2.4 可见光催化测试 | 第31-34页 |
第三章 Ti离子掺杂对BiNbO_4能带结构与可见光催化性能的影响 | 第34-46页 |
3.1 BiNb_(1-x)Ti_xO_4(x=0-0.15)样品的XRD图谱分析 | 第34-35页 |
3.2 BiNb_(1-x)Ti_xO_4(x=0-0.15)样品的Raman散射光谱分析 | 第35-37页 |
3.3 BiNb_(1-x)Ti_xO_4(x=0-0.15)的SEM分析与BET分析 | 第37-38页 |
3.4 BiNb_(1-x)Ti_xO_4(x=0-0.15)的XPS能谱分析 | 第38-40页 |
3.5 BiNb_(1-x)Ti_xO_4(x=0-0.15)的光学性质与能带结构 | 第40-42页 |
3.6 BiNb_(1-x)Ti_xO_4(x=0-0.15)样品的可见光催化性能 | 第42-45页 |
3.7 本章小结 | 第45-46页 |
第四章 Fe离子掺杂对BiNbO_4能带结构与可见光催化性能的影响 | 第46-58页 |
4.1 BiNb_(1-x)Fe_xO_4(x=0-0.10)样品的XRD图谱分析 | 第46-47页 |
4.2 BiNb_(1-x)Fe_xO_4(x=0-0.10)的Raman散射光谱分析 | 第47-48页 |
4.3 BiNb_(1-x)Fe_xO_4(x=0-0.10)的SEM分析与BET分析 | 第48-49页 |
4.4 BiNb_(1-x)Fe_xO_4(x=0-0.10)的XPS能谱分析 | 第49-52页 |
4.5 BiNb_(1-x)Fe_xO_4(x=0-0.10)的光学性质与能带结构 | 第52-54页 |
4.6 BiNb_(1-x)Fe_xO_4(x=0-0.10)样品的可见光催化性能 | 第54-56页 |
4.7 本章小结 | 第56-58页 |
第五章 Ni离子掺杂对BiNbO_4能带结构与可见光性能的影响 | 第58-69页 |
5.1 BiNb_(1-x)Ni_xO_4(x=0-0.10)样品的XRD图谱分析 | 第58-59页 |
5.2 BiNb_(1-x)Ni_xO_4(x=0-0.10)的Raman散射光谱分析 | 第59-60页 |
5.3 BiNb_(1-x)Ni_xO_4(x=0-0.10)的SEM分析与BET分析 | 第60-61页 |
5.4 BiNb_(1-x)Ni_xO_4(x=0-0.10)样品的XPS能谱分析 | 第61-64页 |
5.5 BiNb_(1-x)Ni_xO_4(x=0-0.10)的光学性质与能带结构 | 第64-66页 |
5.6 BiNb_(1-x)Ni_xO_4(x=0-0.10)样品的可见光催化性能 | 第66-68页 |
5.7 本章小结 | 第68-69页 |
结论 | 第69-71页 |
参考文献 | 第71-79页 |
攻读硕士学位期间取得的研究成果 | 第79-80页 |
致谢 | 第80-81页 |
附表 | 第81页 |