硒化锡及硫化亚锡纳米材料的制备及物性研究
摘要 | 第4-6页 |
abstract | 第6-7页 |
第一章 绪论 | 第12-19页 |
1.1 纳米材料简介 | 第12-13页 |
1.2 纳米材料的性质及应用 | 第13-14页 |
1.3 硒化锡和硫化亚锡的基本性质 | 第14-16页 |
1.3.1 硒化锡的基本性质 | 第14-15页 |
1.3.2 硫化亚锡的基本性质 | 第15-16页 |
1.4 选题意义及创新点 | 第16-19页 |
1.4.1 选题的意义 | 第16-17页 |
1.4.2 论文的创新点 | 第17-19页 |
第二章 实验部分 | 第19-29页 |
2.1 化学气相沉积法 | 第19-22页 |
2.1.1 化学气相沉积法的基本要求 | 第19-20页 |
2.1.2 化学气相沉积法的特点 | 第20页 |
2.1.3 化学气相沉积反应机理 | 第20-21页 |
2.1.4 化学气相沉积法的优缺点 | 第21-22页 |
2.2 化学试剂 | 第22页 |
2.3 实验设备 | 第22页 |
2.4 样品制备 | 第22-23页 |
2.5 样品表征方法 | 第23-27页 |
2.5.1 X射线衍射分析 | 第23-24页 |
2.5.2 扫描电子显微镜 | 第24页 |
2.5.3 透射电子显微镜 | 第24-25页 |
2.5.4 拉曼光谱 | 第25-26页 |
2.5.5 近红外光谱仪 | 第26-27页 |
2.5.6 X射线光电子能谱 | 第27页 |
2.6 衬底准备 | 第27-29页 |
第三章 硒化锡纳米材料的制备及物性研究 | 第29-42页 |
3.1 引言 | 第29页 |
3.2 实验过程 | 第29页 |
3.3 结果分析 | 第29-37页 |
3.3.1 管式炉温度分布曲线 | 第29-30页 |
3.3.2 光学照片 | 第30-31页 |
3.3.3 X射线衍射分析 | 第31页 |
3.3.4 扫描电子显微镜分析 | 第31-33页 |
3.3.5 透射电子显微镜分析 | 第33-36页 |
3.3.6 电学性能测试 | 第36页 |
3.3.7 X射线光电子能谱分析 | 第36-37页 |
3.3.8 拉曼光谱 | 第37页 |
3.4 纳米线的生长机制 | 第37-40页 |
3.5 紫外可见近红外吸收光谱 | 第40页 |
3.6 其他纳米结构 | 第40-41页 |
3.7 本章小结 | 第41-42页 |
第四章 硫化亚锡/硅氧化物核壳结构纳米线的制备 | 第42-52页 |
4.1 引言 | 第42页 |
4.2 样品制备 | 第42页 |
4.3 结果分析 | 第42-49页 |
4.3.1 管式炉温度分布曲线 | 第42-43页 |
4.3.2 X射线衍射分析 | 第43-44页 |
4.3.3 扫描电镜分析 | 第44页 |
4.3.4 透射电子显微镜 | 第44-48页 |
4.3.5 X射线光电子能谱 | 第48-49页 |
4.4 生长机制研究 | 第49-51页 |
4.5 本章小结 | 第51-52页 |
总结与展望 | 第52-54页 |
参考文献 | 第54-59页 |
攻读硕士期间科研成果 | 第59-61页 |
致谢 | 第61-62页 |
附录 | 第62-64页 |