摘要 | 第5-7页 |
Abstract | 第7-8页 |
第一章 绪论 | 第12-24页 |
1.1 引言 | 第12页 |
1.2 软磁复合材料概述 | 第12-19页 |
1.2.1 软磁复合材料发展历程 | 第13-14页 |
1.2.2 软磁复合材料分类 | 第14-17页 |
1.2.3 软磁复合材料主要性能参数 | 第17-19页 |
1.3 软磁复合材料绝缘包覆工艺研究现状 | 第19-21页 |
1.3.1 有机绝缘包覆研究现状 | 第19-20页 |
1.3.2 无机绝缘包覆研究现状 | 第20-21页 |
1.4 本文研究意义、目的及主要内容 | 第21-24页 |
第二章 实验方法 | 第24-30页 |
2.1 实验材料和实验仪器 | 第24页 |
2.2 软磁复合材料的制备 | 第24-27页 |
2.2.1 工艺流程图 | 第24-25页 |
2.2.2 磁粉粒度配比 | 第25页 |
2.2.3 绝缘包覆处理 | 第25-26页 |
2.2.4 添加粘结剂 | 第26页 |
2.2.5 压制成型 | 第26页 |
2.2.6 退火热处理 | 第26-27页 |
2.3 性能测试和样品表征 | 第27-30页 |
2.3.1 直流磁性能测试 | 第27页 |
2.3.2 交流磁性能测试 | 第27-28页 |
2.3.3 扫描电子显微镜(SEM) | 第28页 |
2.3.4 X射线光电子能谱(XPS) | 第28-29页 |
2.3.5 X射线衍射仪(XRD) | 第29页 |
2.3.6 热重(TG) | 第29-30页 |
第三章 表面氮化法制备FeSi,FeSiAl和FeSiCr软磁复合材料 | 第30-44页 |
3.1 引言 | 第30页 |
3.2 氮化包覆层对磁性能的影响 | 第30-33页 |
3.2.1 氮化包覆层对直流磁性能的影响 | 第30-31页 |
3.2.2 氮化温度对磁性能的影响 | 第31-33页 |
3.2.3 氮化法和传统磷酸包覆法制备磁粉芯磁性能对比 | 第33页 |
3.3 氮化包覆层表征与分析 | 第33-38页 |
3.3.1 氮化包覆层微观形貌 | 第33-34页 |
3.3.2 氮化包覆层化学组成 | 第34-38页 |
3.4 氮化包覆层生长机理分析 | 第38-40页 |
3.4.1 氮化过程热力学分析 | 第38-39页 |
3.4.2 氮化过程动力学分析 | 第39-40页 |
3.4.3 氮化包覆层生长模型 | 第40页 |
3.5 不同体系绝缘层生长机制与复合材料磁性能联系 | 第40-41页 |
3.6 本章小结 | 第41-44页 |
第四章 表面氧化法制备FeSiCr体系软磁复合材料 | 第44-52页 |
4.1 引言 | 第44页 |
4.2 氧化包覆层对磁性能的影响 | 第44-46页 |
4.2.1 氧化包覆层对直流磁性能的影响 | 第44-45页 |
4.2.2 氧化温度对交流磁性能的影响 | 第45页 |
4.2.3 氧化样品与磷酸包覆样品磁性能对比 | 第45-46页 |
4.3 氧化包覆层表征与分析 | 第46-48页 |
4.3.1 氧化包覆层微观形貌 | 第46页 |
4.3.2 氧化包覆层相组成 | 第46-47页 |
4.3.3 氧化包覆层化学组成 | 第47-48页 |
4.4 氧化包覆层生长机理分析 | 第48-50页 |
4.4.1 氧化过程热力学分析 | 第48页 |
4.4.2 氧化过程动力学分析 | 第48-49页 |
4.4.3 氧化绝缘层生长机理分析 | 第49-50页 |
4.5 本章小结 | 第50-52页 |
第五章 表面氮化氧化法制备FeSi,FeSiAl和FeSiCr体系软磁复合材料 | 第52-62页 |
5.1 引言 | 第52-53页 |
5.2 氮化氧化包覆层对磁性能的影响 | 第53-55页 |
5.2.1 氧化温度对磁性能的影响 | 第53-54页 |
5.2.2 氮化氧化样品与氮化磁粉芯磁性能对比 | 第54-55页 |
5.3 氮化氧化包覆层表征与分析 | 第55-59页 |
5.3.1 氮化氧化包覆层微观形貌 | 第55-56页 |
5.3.2 氮化氧化包覆层化学组成 | 第56-59页 |
5.4 氮化氧化包覆层生长机理分析 | 第59-60页 |
5.5 氮化氧化包覆层与磁性能的关系 | 第60页 |
5.6 本章小结 | 第60-62页 |
第六章 总结与展望 | 第62-64页 |
参考文献 | 第64-70页 |
致谢 | 第70-72页 |
个人简历 | 第72-74页 |
攻读学位期间发表的学术论文与取得的其他研究成果 | 第74页 |