| 中文摘要 | 第3-4页 |
| abstract | 第4-5页 |
| 第一章 文献综述 | 第9-26页 |
| 1.1 结构催化剂 | 第9页 |
| 1.2 分子筛型结构催化剂 | 第9-14页 |
| 1.2.1 分子筛型结构催化剂的制备 | 第9-10页 |
| 1.2.2 分子筛型结构催化剂的应用 | 第10-14页 |
| 1.3 b 轴取向 MFI 型分子筛膜 | 第14-23页 |
| 1.3.1 MFI 型分子筛孔道各向异性 | 第14-15页 |
| 1.3.2 b 轴取向 Silicalite-1 分子筛膜 | 第15-22页 |
| 1.3.3 b 轴取向 HZSM-5 分子筛膜 | 第22-23页 |
| 1.4 碳氢燃料催化裂解反应 | 第23-24页 |
| 1.5 研究内容与意义 | 第24-26页 |
| 第二章 实验部分 | 第26-35页 |
| 2.1 实验试剂及设备 | 第26-27页 |
| 2.2 b 轴取向 HZSM-5 催化薄膜的制备与表征 | 第27-32页 |
| 2.2.1 基体表面预处理 | 第27-28页 |
| 2.2.2 b 轴取向 HZSM-5 催化薄膜制备 | 第28-30页 |
| 2.2.3 b 轴取向 HZSM-5 催化薄膜表征 | 第30-32页 |
| 2.3 b 轴取向 HZSM-5 催化薄膜的渗透性能测试 | 第32-34页 |
| 2.4 b 轴取向 HZSM-5 催化薄膜的催化性能评价 | 第34-35页 |
| 第三章 单层 b 轴取向 HZSM-5 薄膜制备中 Al 离子的作用 | 第35-45页 |
| 3.1 分子筛形成机理 | 第35-37页 |
| 3.2 不同铝含量对单层 b 轴取向 HZSM-5 薄膜形成的影响 | 第37-41页 |
| 3.2.1 不同 Al 含量对催化薄膜连续性的影响 | 第37-38页 |
| 3.2.2 不同 Al 含量对催化薄膜晶粒取向的影响 | 第38-41页 |
| 3.3 不同 Al 源水解条件对催化薄膜的影响（Si/Al=50） | 第41-44页 |
| 3.4 本章小结 | 第44-45页 |
| 第四章 单层 b 轴取向 HZSM-5 薄膜制备中基体界面效应 | 第45-64页 |
| 4.1 氧化物修饰基体表面 HZSM-5 催化薄膜制备 | 第45-47页 |
| 4.2 氧化物修饰基体界面对催化膜合成的影响 | 第47-51页 |
| 4.2.1 氧化物修饰层粗糙度 | 第47-48页 |
| 4.2.2 氧化物修饰层与晶核间吸附作用 | 第48-50页 |
| 4.2.3 氧化物修饰层的羟基 | 第50-51页 |
| 4.3 TiO_2修饰基体界面性质的影响 | 第51-62页 |
| 4.3.1 不同 Ti-OH 浓度 | 第51-54页 |
| 4.3.2 不同 Ti-OH 种类 | 第54-62页 |
| 4.4 TiO_2修饰层在不同基体上的应用 | 第62-63页 |
| 4.5 本章小结 | 第63-64页 |
| 第五章 TiO_2sol-gel 涂层辅助多层 b 轴 HZSM-5 薄膜的合成及性能 | 第64-83页 |
| 5.1 晶面诱导孪晶生长现象 | 第64-66页 |
| 5.2 TiO_2sol-gel 修饰层辅助多层 b 轴取向 HZSM-5 催化薄膜制备 | 第66-74页 |
| 5.2.1 多层 HZSM-5 催化薄膜的制备：TiO_2sol-gel 修饰法 | 第66-68页 |
| 5.2.2 TiO_2sol-gel 修饰层对孪晶的抑制作用 | 第68-70页 |
| 5.2.3 多层 HZSM-5 催化薄膜的负载量和酸性质表征 | 第70-72页 |
| 5.2.4 多层 HZSM-5 催化薄膜的的渗透性能表征 | 第72-74页 |
| 5.3 多层 HZSM-5 催化薄膜的催化裂解反应性能评价 | 第74-80页 |
| 5.3.1 反应转化率 | 第75-76页 |
| 5.3.2 气、液相产物分析 | 第76-78页 |
| 5.3.3 积碳分析 | 第78-80页 |
| 5.4 多层 HZSM-5 催化薄膜有效扩散系数估算 | 第80-82页 |
| 5.5 本章小结 | 第82-83页 |
| 第六章 TBOT 表面修饰诱导多层 b 轴 HZSM-5 薄膜的合成及性能 | 第83-95页 |
| 6.1 Ti-OH 接枝薄层辅助多层 b 轴取向 HZSM-5 催化薄膜制备 | 第83-90页 |
| 6.1.1 多层 HZSM-5 催化薄膜的制备：Ti-OH 接枝法 | 第83-84页 |
| 6.1.2 Ti-OH 接枝薄层对孪晶生长的抑制作用 | 第84-90页 |
| 6.2 多层 HZSM-5 催化薄膜的催化裂解反应性能评价 | 第90-93页 |
| 6.3 本章小结 | 第93-95页 |
| 第七章 b 轴取向 HZSM-5 催化薄膜晶粒调控及催化裂解性能 | 第95-108页 |
| 7.1 不同晶粒大小的 b 轴取向 HZSM-5 催化薄膜的制备与表征 | 第95-102页 |
| 7.1.1 不同晶粒大小的 b 轴取向 HZSM-5 催化薄膜制备 | 第95页 |
| 7.1.2 不同晶粒大小的 b 轴取向 HZSM-5 催化薄膜表征 | 第95-102页 |
| 7.2 不同晶粒大小 HZSM-5 催化薄膜催化裂解反应性能 | 第102-107页 |
| 7.2.1 反应转化率 | 第102-105页 |
| 7.2.2 反应产物分布 | 第105-107页 |
| 7.3 本章小结 | 第107-108页 |
| 第八章 结论与展望 | 第108-110页 |
| 8.1 主要结论 | 第108-109页 |
| 8.2 主要创新点 | 第109页 |
| 8.3 工作展望 | 第109-110页 |
| 附录 | 第110-116页 |
| 参考文献 | 第116-131页 |
| 发表论文和参加科研情况说明 | 第131-133页 |
| 致谢 | 第133-134页 |
