| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第一章 文献综述 | 第9-21页 |
| 1.1 硅钢概述 | 第9-12页 |
| 1.1.1 硅钢简介及分类 | 第9-10页 |
| 1.1.2 硅钢的发展历程 | 第10-12页 |
| 1.2 取向硅钢的生产工艺发展状况 | 第12-14页 |
| 1.3 取向硅钢的抑制剂 | 第14-17页 |
| 1.3.1 硅钢抑制剂的研究历程 | 第14页 |
| 1.3.2 取向硅钢抑制剂的选取 | 第14-15页 |
| 1.3.3 抑制剂的作用机理 | 第15-16页 |
| 1.3.4 抑制剂的分类 | 第16-17页 |
| 1.4 二次高温退火晶界特征分析 | 第17-18页 |
| 1.5 EBSD微观织构分析 | 第18-19页 |
| 1.6 课题研究目标及内容 | 第19-21页 |
| 1.6.1 研究目标 | 第19页 |
| 1.6.2 研究内容 | 第19-20页 |
| 1.6.3 研究意义 | 第20-21页 |
| 第二章 实验材料及方法 | 第21-27页 |
| 2.1 实验工艺及方法 | 第21-24页 |
| 2.1.1 实验材料的制备 | 第21-22页 |
| 2.1.2 渗氮工艺 | 第22页 |
| 2.1.3 二次再结晶 | 第22-24页 |
| 2.2 实验样品制备 | 第24-27页 |
| 2.2.1 金相样品制备方法 | 第24页 |
| 2.2.2 透射样品制备方法 | 第24-26页 |
| 2.2.3 EBSD样品制备方法 | 第26-27页 |
| 第三章 不同渗氮工艺对抑制剂析出的影响 | 第27-35页 |
| 3.1 渗氮工艺的选取 | 第27-28页 |
| 3.2 550 ℃下的抑制剂析出情况 | 第28-30页 |
| 3.3 900 ℃下的抑制剂析出情况 | 第30-32页 |
| 3.4 550 ℃和900℃渗氮温度下的抑制剂析出对比分析 | 第32-33页 |
| 3.5 550 ℃及900℃渗氮温度下的抑制剂析出情况分析 | 第33-34页 |
| 3.6 本章小结 | 第34-35页 |
| 第四章 Hi-B钢高温渗氮下二次再结晶的组织及抑制剂的演变 | 第35-52页 |
| 4.1 显微组织分析 | 第35-39页 |
| 4.2 高温退火过程中的EBSD分析 | 第39-45页 |
| 4.2.1 取向特征分析 | 第39-42页 |
| 4.2.2 取向差角分析 | 第42-43页 |
| 4.2.3 织构变化分析 | 第43-45页 |
| 4.3 二次再结晶过程抑制剂分布 | 第45-51页 |
| 4.3.1 抑制剂分布及其能谱 | 第45-48页 |
| 4.3.2 抑制剂析出情况分析 | 第48-51页 |
| 4.4 本章小结 | 第51-52页 |
| 第五章 Hi-B钢低温渗氮下二次再结晶的组织及抑制剂的演变 | 第52-68页 |
| 5.1 显微组织分析 | 第52-55页 |
| 5.2 高温退火过程中的EBSD分析 | 第55-59页 |
| 5.2.1 取向特征分析 | 第55-57页 |
| 5.2.2 取向差角分析 | 第57-58页 |
| 5.2.3 织构变化分析 | 第58-59页 |
| 5.3 二次再结晶过程抑制剂分布 | 第59-65页 |
| 5.3.1 抑制剂分布及其能谱 | 第59-62页 |
| 5.3.2 抑制剂析出情况分析 | 第62-65页 |
| 5.4 高低温二次再结晶过程对比分析 | 第65-67页 |
| 5.4.1 显微组织对比分析 | 第65页 |
| 5.4.2 EBSD对比分析 | 第65-66页 |
| 5.4.3 抑制剂分布对比分析 | 第66-67页 |
| 5.5 本章小结 | 第67-68页 |
| 第六章 结论 | 第68-69页 |
| 致谢 | 第69-70页 |
| 参考文献 | 第70-75页 |
| 附录1攻读硕士学位期间发表的论文 | 第75-76页 |
| 附录2攻读硕士学位期间参加的科研项目 | 第76页 |
