摘要 | 第5-6页 |
Abstract | 第6-7页 |
第一章 绪论 | 第10-24页 |
1.1 Cu_2O的简介 | 第10-14页 |
1.1.1 半导体Cu_2O的用途 | 第10-12页 |
1.1.2 纳米材料Cu_2O的制备 | 第12-14页 |
1.2 CO_2的还原和研究进展 | 第14-22页 |
1.2.1 CO_2的催化还原 | 第14-18页 |
1.2.2 铜电极上的CO_2电化学还原 | 第18-22页 |
1.3 论文的选题思想和主要内容 | 第22-24页 |
1.3.1 本论文的选题目的和意义 | 第22-23页 |
1.3.2 本论文的主要研究内容 | 第23-24页 |
第二章 不同形貌Cu_2O薄膜的制备及其生长机理的研究 | 第24-39页 |
2.1 前言 | 第24页 |
2.2 实验部分 | 第24-26页 |
2.2.1 实验药品及仪器 | 第24-25页 |
2.2.2 不同条件下Cu_2O的制备 | 第25-26页 |
2.2.3 样品的测试及表征 | 第26页 |
2.3 结果与讨论 | 第26-38页 |
2.3.1 电沉积时pH值和沉积电流密度对Cu_2O薄膜的影响 | 第26-30页 |
2.3.2 沉积时间对于Cu_2O薄膜的影响 | 第30-33页 |
2.3.3 Cl~-对与Cu_2O生长的影响 | 第33-38页 |
2.4 本章小结 | 第38-39页 |
第三章 铜电极上CO_2的还原及其产物的检测 | 第39-49页 |
3.1 前言 | 第39页 |
3.2 实验部分 | 第39-42页 |
3.2.1 实验药品及仪器 | 第39-40页 |
3.2.2 Cu_2O薄膜的制备 | 第40-41页 |
3.2.3 样品的测试及表征 | 第41页 |
3.2.4 CO_2的电化学还原实验 | 第41-42页 |
3.3 结果与讨论 | 第42-47页 |
3.3.1 Cu_2O薄膜的P,N型表征 | 第42-43页 |
3.3.2 Cu_2O薄膜形貌的表征 | 第43-44页 |
3.3.3 电化学还原电位的选取 | 第44-45页 |
3.3.4 电化学还原CO_2的产物分析 | 第45-47页 |
3.4 本章小结 | 第47-49页 |
第四章 结论与展望 | 第49-51页 |
参考文献 | 第51-57页 |
在校期间发表的论文、科研成果 | 第57-58页 |
致谢 | 第58页 |