| 中文摘要 | 第7-9页 |
| Abstract | 第9-11页 |
| 第一章 绪论 | 第12-30页 |
| 1.1 半导体硅材料 | 第12-14页 |
| 1.1.1 半导体简介 | 第12-13页 |
| 1.1.2 半导体硅材料的导电机理 | 第13-14页 |
| 1.1.3 纳米硅材料 | 第14页 |
| 1.2 光电化学的研究应用 | 第14-19页 |
| 1.2.1 光电催化技术 | 第15-16页 |
| 1.2.2 光电传感技术 | 第16-18页 |
| 1.2.3 光电检测技术 | 第18-19页 |
| 1.3 重金属的危害及检测方法 | 第19-21页 |
| 1.3.1 重金属的危害 | 第19页 |
| 1.3.2 重金属的检测方法 | 第19-21页 |
| 1.4 本论文的选题目的及意义 | 第21-22页 |
| 参考文献 | 第22-30页 |
| 第二章 Pt/n-Si电极对HQ、CC的光电响应及其对重金属离子的检测 | 第30-44页 |
| 2.1 引言 | 第30-31页 |
| 2.2 试剂和仪器 | 第31-32页 |
| 2.3 实验部分 | 第32-34页 |
| 2.3.1 n型硅片的预处理 | 第32页 |
| 2.3.2 Pt/n-Si光电极的制备 | 第32-33页 |
| 2.3.3 Pt/n-Si光电极的表征 | 第33页 |
| 2.3.4 Pt/n-Si光电极在HQ、CC存在下光电检测重金属离子 | 第33-34页 |
| 2.3.5 Pt/n-Si光电极在HQ、CC存在下对重金属离子的干扰实验 | 第34页 |
| 2.3.6 Pt/n-Si光电极的稳定性与重现性 | 第34页 |
| 2.4 实验结果讨论 | 第34-39页 |
| 2.4.1 Pt/n-Si光电极的SEM表征 | 第34-35页 |
| 2.4.2 重金属离子对HQ光电效应的催化效应 | 第35-36页 |
| 2.4.3 通过CC光电流变化检测重金属离子 | 第36-37页 |
| 2.4.4 Pt/n-Si光电极在HQ、CC存在下对重金属离子的干扰实验 | 第37-38页 |
| 2.4.5 Pt/n-Si光电极的稳定性与重现性 | 第38-39页 |
| 2.5 本章小结 | 第39-40页 |
| 参考文献 | 第40-44页 |
| 第三章 NiOOH修饰硅电极及对Hg(Ⅱ)的光电化学检测 | 第44-64页 |
| 3.1 引言 | 第44-45页 |
| 3.2 试剂与仪器 | 第45-46页 |
| 3.3 实验过程 | 第46-48页 |
| 3.3.1 NiOOH/Pt/n-Si电极的制备 | 第46-47页 |
| 3.3.2 NiOOH/Pt/n-Si电极的表征 | 第47页 |
| 3.3.3 NiOOH/Pt/n-Si电极在Hg(Ⅱ)存在下对CC光电化学响应 | 第47页 |
| 3.3.4 NiOOH/Pt/n-Si电极对水样中Hg(Ⅱ)的光电化学检测 | 第47-48页 |
| 3.3.5 NiOOH/Pt/n-Si电极对Hg(Ⅱ)光电化学检测的干扰实验 | 第48页 |
| 3.3.6 NiOOH/Pt/n-Si电极的稳定性与重现性 | 第48页 |
| 3.4 结果和讨论 | 第48-56页 |
| 3.4.1 NiOOH膜层在Ni/Pt/n-Si电极上的光电化学形成过程 | 第48-49页 |
| 3.4.2 NiOOH/Pt/n-Si电极的SEM表征、XPS表征 | 第49-51页 |
| 3.4.3 NiOOH/Pt/n-Si电极在Hg(Ⅱ)存在下对CC的光电化学响应 | 第51-53页 |
| 3.4.4 NiOOH/Pt/n-Si电极对水样中Hg(Ⅱ)的光电化学检测 | 第53-54页 |
| 3.4.5 NiOOH/Pt/n-Si电极对Hg(Ⅱ)的光电化学干扰检测 | 第54-55页 |
| 3.4.6 NiOOH/Pt/n-Si电极的稳定性、重现性与便携性 | 第55-56页 |
| 3.5 本章小结 | 第56-57页 |
| 参考文献 | 第57-64页 |
| 第四章 NiOOH修饰硅电极及对DA、AA的光电化学检测 | 第64-77页 |
| 4.1 引言 | 第64-65页 |
| 4.2 试剂和仪器 | 第65页 |
| 4.3 实验部分 | 第65-67页 |
| 4.3.1 NiOOH/Pt/n-Si电极的制备 | 第65页 |
| 4.3.2 NiOOH/Pt/n-Si电极的表征 | 第65页 |
| 4.3.3 NiOOH/Pt/n-Si电极在PBS中对DA和AA的光电化学响应 | 第65-66页 |
| 4.3.4 NiOOH/Pt/n-Si电极在PBS中对DA和AA的光电化学检测 | 第66页 |
| 4.3.5 NiOOH/Pt/n-Si电极在去离子水中对DA和AA的光电化学检测 | 第66页 |
| 4.3.6 NiOOH/Pt/n-Si电极在去离子水中对DA和AA的干扰检测 | 第66-67页 |
| 4.3.7 NiOOH/Pt/n-Si电极的稳定性与重现性 | 第67页 |
| 4.4 实验结果讨论 | 第67-73页 |
| 4.4.1 NiOOH膜层在Ni/Pt/n-Si电极上的光电化学形成过程 | 第67页 |
| 4.4.2 NiOOH/Pt/n-Si电极的SEM表征、XPS表征 | 第67页 |
| 4.4.3 NiOOH/Pt/n-Si电极在PBS中对DA和AA的光电化学响应 | 第67-68页 |
| 4.4.4 NiOOH/Pt/n-Si电极在PBS中对DA和AA的光电化学检测 | 第68-69页 |
| 4.4.5 NiOOH/Pt/n-Si电极在去离子水中对DA和AA的光电化学检测 | 第69-71页 |
| 4.4.6 NiOOH/Pt/n-Si电极在去离子水中对DA和AA的干扰检测 | 第71-72页 |
| 4.4.7 NiOOH/Pt/n-Si电极的稳定性与重现性 | 第72-73页 |
| 4.5 本章小结 | 第73-74页 |
| 参考文献 | 第74-77页 |
| 第五章 结论和展望 | 第77-79页 |
| 5.1 结论 | 第77-78页 |
| 5.2 展望 | 第78-79页 |
| 攻读硕士学位期间发表的学术论文目录 | 第79-80页 |
| 致谢 | 第80-81页 |
